内容正文:
参 考 答 案
463
22.4
V
×10−3×126
a
×l00%
4.(1)A
(2)25
(3)未出现紫红色
(4)热水
(5)C
(6)① 碱式滴定管 ② 98.5%
5.
(l)
CH−COOH
O=C−COOH
取代反应
(2)B
(3)4
H3C OOCH
、
H3C COOH
、
H3C OOCH
、
H3C COOH
(任写一种)
(4)
HO OH
O O
+
O
H2N NH2
HCl
O O
O
HN NH
+ 2H2O
(5)
CH2OH COOH COOC2H5CHO
CH2OH COOH COOC2H5CHO
CuO 2C2H5OH
浓H2SO4
O2
项目6
【学习理解】
1. A
2.(1)3SiCl4 + 2N2 + 6H2 Si3N4 + 12HCl
(2)① 除去原料气中的氧气 除去生成的水蒸气
② 该反应是放热反应,防止局部过热,导致硅熔化成团,阻碍与N2的接触 将
体系中的氧气转化为水蒸气,而易被除去(或将整个体系中空气排尽)
③ 硝酸
Chemical
化
学
走向真实情境的项目化学习
464
(3)① SiHCl3 + 3H2O H2SiO3↓+ 3HCl + H2↑
② 5∶1
【应用实践】
3.(1)>
(2)b
(3)改进催化剂,提高反应物压强(或浓度)
(4)0.03 mol·L−1·min−1
【迁移创新】
4.(1)-88
(2)① 0.188 ② 170 ℃ 408.3 ③ 升高温度,化学反应速率加快;温度过
高,反应平衡逆向移动,催化剂活性降低
(3)① AuCl2H
+ C2H2 AuCl + C2H3Cl
② HCl占据催化剂表面活性位点
5.(1)升温、及时移去产物
(2)① 80 45 ② 2.5
(3)①159.2 ② ab ③ 当p(CO2)<15 kPa,随着CO2压强增大,反应物浓度
增大,反应速率加快,反应向右进行;当 p(CO2)>15 kPa,过多的CO2造成催化剂
表面乙苯的吸附下降
项目7
【学习理解】
1.(1)Cr2O7
2− + 6Fe2+ + 14H+ 2Cr3+ + 6Fe3+ + 7H2O
(2)Fe(OH)3、Fe(OH)2
(3)13.9
2.(1)使测定值与水体中溶氧量实际值保持一致,避免产生误差
(2)2Mn(OH)2 + O2 2MnO(OH)2
(3)量筒 氧气
(4)当最后一滴标准液滴入时,溶液由蓝色变为无色,且半分钟内无变
化 80ab
(5)低
化 走向真实情境的项目化学习 Chemical 硅锭 硅片 切成 经20~30道 割片 工艺步骤 封装 切成芯片 回g回 硅片 回回回 测试 成品测试 形成带芯片 回日0 提供 的硅片 0回 给客户 图6-3-8芯片制造工艺流程图 项目梳理 工程思维 反应条件 热力学动力学 成本低廉 实际流程 流程设计 分离与提纯 根据物理和化学性质 选择合适的分离手段 科学思维 物质转化 “价一类”二维 绿色化学 项目检测 【学习理解】 1.科学家发现对治金硅进行电解精炼提纯可降低高纯硅制备成本。相关 电解槽装置如图所示,用Cū-Si合金作硅源,在950℃条件下利用三层液熔盐 进行电解精炼,下列有关说法正确的是( 164 探秘麒麟9905G芯片 顶自⑥ e Si 液态铝 液态电解质 Si 液态Cu-Si合金 c A.电子由液态Cu-Si合金流出,流入液态铝电极 B.液态铝电极与正极相连,作为电解池的阳极 C.在该液相熔体中Cu优先于Si被氧化,S艹优先于Cu+被还原 D.三层液熔盐的作用是使电子能够在三层间自由流动 2.硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过 程中,创造了一个又一个奇迹。 (1)新型陶瓷Si,N的熔点高、硬度大、化学性质稳定。工业上可以采 用化学气相沉积法,在H,的保护下,使SiC14与N2反应生成SiN4沉积在石墨表 面,写出该反应的化学方程式: (2)一种工业用原料硅中含少量钾、钠、铁、铜的氧化物,用其合成氮 化硅的主要工艺流程如图所示。已知硅的熔点是1420℃,且高温下氧气及 水蒸气能明显腐蚀氮化硅。试完成下列问题。 硅块→粉碎 H2- 无水氯化钙 铜屑 硅胶 氮化炉 接真空 N2 装置 600℃ 1200~1400℃ 蒸馏水 稀酸X 18~36h 氮化硅 后处理 水洗 酸洗 165 xa”学走向真实情境的项目化学习 ①净化N_2和H时,铜屑的作用是_,硅胶 的作用是__________。 ②在氮化炉中发生反应3SiO_2(s)+2N_2(g)—SiN_4(s)+30_2(g) ΔH=-727.5kJ·mol,开始时,严格控制氮气的流速以控制温度的原因是 _________;体系中要通 _。 ③