第三章 不同聚集状态的物质与性质 单元测试 2022-2023学年高二上学期鲁科版(2019)化学选择性必修2

2023-07-05
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第三章《不同聚集状态的物质与性质》检测题 一、单选题(共13题) 1.我国古代就掌握了青铜(铜-锡合金)的冶炼、加工技术,制造出许多精美的青铜器;Pb、是铅蓄电池的电极材料,不同铅化合物一般具有不同颜色,历史上曾广泛用作颜料,下列物质性质与用途具有对应关系的是 A.石墨能导电,可用作润滑剂 B.单晶硅熔点高,可用作半导体材料 C.青铜比纯铜熔点低、硬度大,古代用青铜铸剑 D.含铅化合物颜色丰富,可用作电极材料 2.下列关于晶体的结构,粒子间的相互作用的说法,正确的是 A.分子晶体中只存在范德华力 B.离子晶体中只存在离子键 C.共价晶体中都存在极性键 D.金属晶体中只存在金属键 3.下列物质形成的晶体中,属于离子晶体的是 A. B. C. D. 4.下列有关说法不正确的是 A.面心立方最密堆积的配位数为12,空间利用率为68% B.乳酸()分子中含有一个手性碳原子 C.碘易溶于四氯化碳,甲烷难溶于水都可用“相似相溶”原理解释 D.1个N2分子中的键与1个CO2分子中的键的数目之比为1:1 5.下列说法正确的是 A.冰融化时,分子中H-O键发生了断裂 B.分子晶体中,分子间作用力越大,对应的物质越稳定 C.共价晶体中,共价键越强,晶体的熔点就越高 D.分子晶体中,共价键越强,晶体的熔点就越高 6.氧化亚铜(Cu2O)在潮湿的空气中会逐渐氧化为黑色的氧化铜。可以用肼(N2H4)与醋酸铜反应制取Cu2O: 4 Cu (CH3COO)2+N2H4+2H2O=2Cu2O↓+N2+8CH3COOH。生成的沉淀需用水洗涤后,用乙醇洗涤。下列说法不正确的是 A.N2H4能与水分子形成分子间氢键 B.如图所示Cu2O的晶胞中,Cu+的配位数是2 C.每生成标准状况下2.24 L N2,反应转移电子数为0.2×6.02×1023 D.沉淀用水洗后,再用乙醇洗可以除去Cu2O表面的水,防止被氧气氧化 7.以表示阿伏加德罗常数的值,下列说法正确的是 A.冰(图甲)中含共价键数目为 B.金刚石(图乙)中含有键数目为 C.干冰(图丙)中含有个晶胞结构单元 D.石墨(图丁)中含键数目为 8.前4周期元素X、Y、Z、W的原子序数依次增大。X和Y的基态原子的能级上各有两个未成对电子,Z与Y同族,W原子核内有29个质子,下列说法正确的是 A.原子半径: B.简单气态氢化物的热稳定性: C.元素第一电离能: D.W元素的一种氧化物晶胞如图所示,该氧化物为 9.反应SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)可用于“中国芯”原料高纯硅的制备。下列说法正确的是 A.SiCl4为极性分子 B.反应中只有一种物质为电解质 C.单晶硅为分子晶体 D.Si原子的结构示意图为 10.NA为阿伏加德罗常数的值,下列说法正确的是 A.124gP4含有的P−P键的个数为6NA B.78gNa2O2中所含的离子总数为4NA C.12g金刚石中含有的C−C键为4NA D.60gSiO2中含Si−O键的个数为2NA 11.设NA为阿伏加德罗常数的值,下列叙述正确的是 A.1 mol环己烷中共价键数目为19NA B.28 g晶体硅含有共价键数目为4NA C.30 g甲醛和甲酸甲酯的混合物中含有的原子数为4NA D.标准状况下,2.24 L CHCl3含有的分子数为0.1NA 12.氮化硼(BN)晶体有多种相结构。六方相氮化硼是通常存在的稳定相,与石墨相似,具有层状结构,可作高温润滑剂。立方相氮化硼是超硬材料,有优异的耐磨性。它们的晶体结构如图所示: 下列关于这两种晶体的说法中正确的是 A.立方相氮化硼含有σ键和π键,所以硬度大 B.六方相氮化硼层间作用力小,所以质地软 C.两种晶体中都既有极性键又有非极性键 D.两种晶体均为共价晶体 13.铁有δ、γ、α三种同素异形体,如下图所示,三种晶体在不同温度下能发生转化。下列说法正确的是 A.α-Fe晶体中与每个铁原子等距离且最近的铁原子有12个 B.若δ-Fe晶胞边长为acm,α-Fe晶胞边长为bcm,则两种晶体密度比为2b3:a2 C.将铁加热到1500°C分别急速冷却和缓慢冷却,得到的晶体堆积模型相同 D.δ-Fe晶体中与每个铁原子等距离且最近的铁原子有8个 二、非选择题(共10题) 14.四卤化硅SiX4的沸点和二卤化铅PbX2的熔点如图所示。结合SiX4的沸点和PbX2的熔点的变化规律,可推断:依F、Cl、Br、I次序,PbX2中的化学键的离子性___________、共价性___________(填“增强”“不变”或“减弱”)。 15.常见的典型分子晶体 (1)所有_____________:如H2O、H2S、NH3、CH4、HX(卤化氢)等。 (2)部分_____________:如X2(卤素单质)、O2、H2

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