内容正文:
PN 结及其单向导电性
PN 结及其单向导电性
在一块半导体的一侧掺杂成为 P 型半导体,另一侧掺杂成为 N 型半导体,两个区域的交界处就形成了一个特殊的薄层,称为 PN 结。
P
N
PN结
PN 结的形成
扩散与漂移的动态平衡
扩散运动使空间电荷区增大,扩散电流逐渐减小;
随着内电场的增强,漂移运动逐渐增加;
当扩散电流与漂移电流相等时,PN 结总的电流
空间电荷区的宽度约为几微米 ~ 几十微米;
等于零,空间电荷区的宽度达到稳定。即扩散运动与
漂移运动达到动态平衡。
电压壁垒 UD,硅材料约为(0.6 ~ 0.8) V,
锗材料约为(0.2 ~ 0.3) V。
PN结的接触电位差(内建电位差)
电位
电子势能
空间电荷区内的P区带负电荷,N区带正电荷,两者之间形成电位差,称为接触电位差 ( U ) 。
常温下(T=300K)
硅:
锗:
电子带负电,所以P区的电子势能高于N区的电子势能,电子要从N区到达P区需要越过一个能量高坡,称之为势垒。所以空间电荷区也称为势垒区。
PN结=空间电荷区=耗尽层=阻挡层=势垒区
E
P
N
PN 结的单向导电性
1. PN 外加正向电压
又称正向偏置,简称正偏。
外电场方向
内电场方向
空间电荷区
V
R
I
外电场将多子推向空间电荷区,使其变窄,消弱内电场,破坏原平衡,加剧扩散运动,产生较大正向电流
P
N
在 PN 结加上一个很小的正向电压,即可得到较大的正向电流,为防止电流过大,接入电阻 R。
2. PN 结外加反向电压(反偏)
空间电荷区
P
N
外电场方向
内电场方向
V
R
IS
反相偏置的 PN 结
反向电流又称反向饱和电流。对温度十分敏感,随着温度升高, IS 将急剧增大。
反向接法时,外电场与内电场的方向一致,增强了内电场的作用;外电场使空间电荷区变宽;
不利于扩散运动,有利于漂移运动,漂移电流大于扩散电流,电路中产生反向电流 I ;
由于少数载流子浓度很低,反向电流数值非常小。
综上所述:
当 PN 结正向偏置时,回路中将产生一个较大的正向电流, PN 结处于 导通状态;当 PN 结反向偏置时,回路中反向电流非常小,几乎等于零, PN 结处于截止状态。
可见, PN 结具有单向导电性。
五、PN结的电容效应
当PN结上的电压发生变化时,PN 结中储存的电荷量将随之发生变化,使PN结具有电容效应。
电容效应包括两部分
势垒电容
扩散电容
1. 势垒电容
是由 PN 结的空间电荷区变化形成的。
(a) PN 结加正向电压
(b) PN 结加反向电压
-
N
空间
电荷区
P
V
R
I
+
U
N
空间
电荷区
P
R
I
+
-
U
V
空间电荷区的正负离子数目发生变化,如同电容的放电和充电过程。
势垒电容的大小可用下式表示:
由于 PN 结 宽度 l 随外加电压 U 而变化,因此势垒电容 Cb不是一个常数。其 Cb = f (U) 曲线如图示。
:半导体材料的介电比系数;
S :结面积;
l :耗尽层宽度。
O
U
Cb
2. 扩散电容 Cd
Q
是由多数载流子在扩散过程中积累而引起的。
在某个正向电压下,P 区中的电子浓度 np(或 N 区的空穴浓度 pn)分布曲线如图中曲线 1 所示。
x = 0 处为 P 与 N 区的交界处
当电压加大,np (或 pn)会升高,如曲线 2 所示(反之浓度会降低)。
O
x
nP
Q
1
2
Q
当加反向电压时,扩散运动被削弱,扩散电容的作用可忽略。
Q
正向电压时,变化载流子积累电荷量发生变化,相当于电容器充电和放电的过程 —— 扩散电容效应。
综上所述:
PN 结总的结电容 Cj 包括势垒电容 Cb 和扩散电容 Cd 两部分。一般来说,当二极管正向偏置时,扩散电容起主要作用,即可以认为 Cj Cd;当反向偏置时,势垒电容起主要作用,可以认为 Cj Cb。
Cb 和 Cd 值都很小,通常为几个皮法 ~ 几十皮法,有些结面积大的二极管可达几百皮法。
1.2
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