内容正文:
本征激发区
本征激发区
杂质全电离
本征载流子浓度大
电中性条件
EC
ED
Ei
T
EF
弱电离区
强电离区
过渡区
本征区
费米能级随温度的变化
N型半导体费米能级、电子浓度随温度的变化情况
ND
0
ni
T
n0
弱电离区
强电离区
过渡区
本征区
载流子浓度随温度的变化
同时应注意费米能级、电离情况的对应关系
N型半导体费米能级随杂质浓度的变化情况(室温)
ni
NC
EC
Ei
EF
ND
N型半导体电子浓度随杂质浓度的变化情况
ni
NC
NC
ni
n0
ND
B. P型半导体的载流子浓度和费米能级
(1) 低温弱电离区
4
(4)本征激发区
T↑,EF↑
(3) 过渡区
po=NA,no=ni2/NA
(2) 饱和电离区
例 室温下,在元素半导体Si中掺入1016/cm3 P后,半导体为哪种极性半导体?P元素是施主还是受主?此时半导体的多数载流子和少数载流子分别是什么?热平衡状态时浓度分别是多少?(室温下,Si的ni =1.0×1010/cm3)。
半导体为N型半导体;
P元素是施主;
多子是电子,空穴是少子;
室温下,全部电离
ND=1016/cm3 >>ni=1.0×1010/cm3
半导体处于杂质饱和电离区
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第二级
第三级
第四级
第五级
ND
0
ni
T
n0
弱电离区
强电离区
过渡区
本征区
N型半导体载流子浓度随温度的变化情况
三、工作温区——强电离区(饱和区)
工作温区的上限
工作温区的下限
ni ≤ 0.1 ND
nD+ ≥ 0.9 ND
(1) 工作温区的上限
—— 杂质激发载流子远高于本征激发载流子
条件:ND≥10 ni
——决定掺杂浓度的下限(ND)min
● 根据Tmax,由lnni ~1/T曲线查出 Tmax对应的ni;
● 根据ni的公式计算出Tmax所对应的ni;
例:T=500K时, Si ni=5×1014/cm3
最小掺杂浓度:(ND)min=5×1015/cm3
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