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专题03 有机合成路线汇总
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课本基础链状合成路线
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芳香化合物常考合成路线
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官能团引入、消除的常用方法(速查)
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碳骨架的构建方法
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有机合成中官能团保护
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合成路线书写规范(答题得分模板)
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课本基础链状合成路线
1.一元合成路线
(1)常规合成路线:R—CH=CH2卤代烃一元醇一元醛一元羧酸酯
(2)应用——合成目标:乙烯→乙酸乙酯(一元经典)
①合成路线:
CH2=CH2CH3CH2OHCH3CHOCH3COOHCH3COOCH2CH3
②反应类型依次:加成→催化氧化→催化氧化→酯化(取代)。
2.二元合成路线
(1)常规合成路线:
CH2=CH2CH2XCH2XCH2OHCH2OHHOOCCOOH链酯、环酯、聚酯
(2)应用——合成目标:乙烯→乙二酸乙二酯(二元合成路线,高频)
①合成路线:
CH2=CH2CH2BrCH2BrCH2OHCH2OHHOOCCOOH
②反应类型依次:加成→取代→氧化→酯化(取代)。
③关键点:卤代烃水解得二元醇,强氧化得到二元羧酸,再发生酯化,可生成链酯、环酯、聚酯
3.一元卤代烃完整转化合成路线
(1)常规合成路线:
RCH2CH2X
条件区分口诀:碱水得醇,碱醇得烯。
(2)应用——合成目标:丙烯→丙酸
①合成路线:
CH3CH=CH2CH3CH2CH2BrCH3CH2CH2OHCH3CH2COOH
②反应类型依次:加成→取代→氧化。
③关键点:丙烯为不对称烯烃,与卤化氢加成时,需在过氧化物作用下卤素原子才能加到末端碳原子上。
芳香化合物常考合成路线
1.合成路线1:苯→苯甲酸
(1)合成路线:
C6H6C6H5CH3C6H5COOH
(2)关键:苯环烷基侧链,不管侧链多长,与苯环直接相连碳有H,就被酸性高锰酸钾氧化为COOH。
2.路线2:苯→苯酚
C6H6C6H5BrC6H5ONaC6H5OH
3.路线3:苯→苯胺(硝基还原)
①
②
芳香酯
注意:与Cl2反应时条件不同所得产物不同,光照时,只取代侧链甲基上的氢原子,生成;而Fe作催化剂时,取代苯环上甲基邻、对位上的氢原子,生成。
官能团引入、消除与衍变的常用方法(速查)
1、引入常见的官能团
引入官能团
有关反应
羟基-OH
烯烃与水加成,醛/酮加氢,卤代烃水解,酯的水解
卤素原子(-X)
(1)取代:烷烃/苯的同系物光照卤代;苯环催化卤代;酚与溴水取代;醇与HX取代;
(2)加成:碳碳双键、碳碳三键与X2、HX加成
碳碳双键C=C
某些醇或卤代烃的消去,炔烃与氢气、HX不完全加成
醛基-CHO
某些醇(-CH2OH)氧化,烯烃的臭氧氧化,糖类水解,乙炔水化
羧基-COOH
醛氧化, 酯酸性水解, 羧酸盐酸化,苯的同系物被强氧化剂氧化、酰胺酸性水解
酯基-COO-
羧酸与醇发生酯化反应(浓硫酸加热)
硝基-NO2
苯环硝化:浓HNO3/浓H2SO4水浴加热
引入氨基-NH2
硝基还原(Fe/HCl,高考常给信息)
2、官能团的消除
①消除碳碳双键、碳碳三键:与H2加成;也可被强氧化剂氧化断裂双键;
②消除羟基-OH
a.消去反应生成碳碳双键;
b.催化氧化变为醛/酮;
c.与羧酸酯化变成酯基;
③消除醛基-CHO
a.加成还原:与H2加成生成醇;
b.氧化生成羧基;
④消除卤原子-X
a.NaOH水溶液水解生成羟基;
b.NaOH醇溶液消去生成双键;
⑤消除酯基、酰胺键:酸性或碱性条件下水解,断裂成羧酸(盐)与醇(胺)。
3、官能团的衍变
①利用官能团的衍生关系进行衍变,如连续氧化链:R—CH2OHR—CHOR—COOH;
注意:仲醇R2CHOH氧化生成酮,酮不能继续氧化为羧酸;叔醇不能催化氧化。
②通过某种化学途径使一个官能团变为两个,如一个羟基→两个羟基;常用于二元醇、二元酸合成。
CH3CH2OHCH2==CH2Cl—CH2—CH2ClHO—CH2—CH2—OH;
③通过某种手段改变官能团的位置,如卤代烃水解‑消去‑再加成,实现卤原子、羟基移位。
。
4.常见双向衍变网络
①卤代烃烯烃
②醇烯烃
③醇醛;醛羧酸
④羧酸+醇酯
碳骨架的构建方法
1、有机合成中的成环反应
①加成成环:不饱和烃小分子加成(信息题);
②二元醇分子间或分子内脱水成环;
③二元醇和二元酸酯化成环;
④羟基酸、氨基酸通过分子内或分子间脱去小分子的成环。
2、有机合成中增加碳链(碳原子数目变多)的反应:
(1)卤代烃参与的增碳
①R-X+NaCN:卤原子被-CN取代,增加1个C;-CN酸性水解得到-COOH,
CH3CH2BrCH3CH2CNCH3CH2COOH
②卤代烃与炔钠反应:增长碳链,构建碳碳三键(题目常给信息)CH3CH2Br+NaC=CCH3→CH3CH2C=CCH3+NaBr
③武兹反应:2R-X+2Na→R-R+2NaX,两分子卤代烃连接,碳链加倍(信息题)
(2)醛、酮的加成增碳(高频信息反应)
①醛/酮与HCN加成:羰基加成,增加1个C,产物水解得到羟基羧酸,
R2C=0+HCNR2C(OH)-CNR2C(OH)-COOH
②羟醛缩合:含α-H的醛,碱性条件下两分子醛互相加成,碳链显著增长,生成β-羟基醛,还可进一步消去生成碳碳双键。
(3)聚合反应
①加聚:烯烃、二烯烃聚合,小分子连成长碳链;
②缩聚:二元醇、二元羧酸、羟基酸、氨基酸缩聚,形成高分子碳骨架。
注意:普通酯化只是把两个分子通过氧原子相连,主碳链碳原子数没有真正增长,一般不视作碳链增长反应。
3.有机合成中缩短碳链的反应:
(1)氧化断裂:
①烯烃、炔烃被酸性KMnO4、臭氧氧化:双键/三键断裂,大分子拆成小分子,碳链缩短(高考常给信息)
②苯的同系物氧化:与苯环相连碳有H,侧链被氧化为-COOH,侧链碳链缩短,得到苯甲酸类物质。
(2)脱羧反应:羧酸盐与强碱共热,脱去CO2,产物比原料少1个C,实验室制甲烷:
CH3COONa +NaOHCH4↑+Na2CO3;
(3)烃的裂化、裂解:大分子烃断裂为小分子烃;
(4)水解反应:酯的水解,糖类、蛋白质的水解。
4.开环反应(环状变链状)
(1)环酯、环酰胺水解:酸性 / 碱性条件断裂环,得到链状羟基酸、氨基酸;
(2)环醚开环加成;环烯烃加成,破坏环骨架,得到链状分子。
有机合成中官能团保护
分子中有多个官能团,当对某一基团进行反应时,其他官能团会被试剂破坏;先把不需要反应的官能团保护起来,完成目标反应后再脱去保护基复原官能团。保护要求:保护反应易进行、脱保护条件不破坏其他基团、中间产物稳定。
1、醇羟基(-OH)保护
①成醚(甲基醚-OCH3)
a.保护:R-OHR-OCH3
b.脱保护:浓HBr/HI;强酸性条件,对酸敏感基团不能用。
②四氢吡喃醚THP(最常考)
a.保护:醇+二氢吡喃,酸催化 R-OH+THP R-O-THP
b.特点:对碱、氧化剂、格氏试剂稳定;
c.脱保护:稀酸水解,恢复醇羟基。
③硅醚TMS(三甲基硅基)
a.保护:R-OH+(CH3)3SiClR-OSi(CH3)3
b.脱保护:H3O+或F-(Bu4NF);遇水、酸易分解。
④成酯(乙酸酯)
a.保护:R-OH+Ac2OR-OAc
b.脱保护:碱性水解(NaOH/H2O)或酸性水解。
2、酚羟基Ar-OH(酚易被氧化、易与酸/碱反应)
①甲基醚-OCH3
a.保护:Ar-OHAr-OCH3
b.脱保护:脱保护BBr3。
②成酯
a.保护:Ar-OH+Ac2OAr-OAc
b.脱保护:碱性水解(NaOH/H2O)后酯化。
③成盐
a.保护:
b.脱保护:通入CO2使其复原。
3、醛基(-CHO)保护(醛基易被氧化,也易被强亲核试剂(格氏试剂)进攻)
a.缩醛保护(形成环状缩醛):醛+乙二醇,无水酸催化,除水。
R-CHO+HOCH2CH2OHR-CH(OCH2)2
b.稳定性:对碱、格氏试剂、NaBH4、KMnO4碱性氧化稳定;
c.脱保护:稀酸性水溶液水解,重新得到醛。
d.关键:酮羰基也可以用乙二醇形成缩酮保护;缩醛/缩酮只在酸性下水解,碱性条件不动。
4、羰基(酮)保护:酮羰基可被\(\ce{NaBH4}\)、格氏进攻,易被强氧化剂氧化。
a.缩酮保护(形成环状缩酮):酮+乙二醇,无水酸催化,除水。
R2C=O+HOCH2CH2OHR2C(OCH2)2
b.稳定性:对碱、还原剂、氧化剂稳定;
c.脱保护:稀酸性水溶液水解,重新得到酮。
d.区分:醛→缩醛;酮→缩酮;都是无水酸保护,稀酸脱保护。
5、氨基-NH2保护:氨基极易被氧化,还会与酰卤、卤代烃发生副反应
①酰化保护(乙酰化)
a.保护:R--NH2+Ac2OR--NHAc
b.稳定性:对氧化剂、烃化试剂稳定;
c.脱保护:酸或碱加热水解,复原-NH2。
d.关键:芳香胺(苯胺)合成中乙酰化保护氨基,防止氨基被氧化、防止多取代,是课本经典案例。
②Boc保护(叔丁氧羰基,竞赛常考)
a.保护:R--NH2+BocHR--NHBoc
b.脱保护:脱保护:三氟乙酸 TFA,酸性条件脱除。
6、羧基-COOH保护:羧基酸性,易与强碱反应,也易被强还原剂还原。
a.保护:酯化,变成酯RCOOHRCOOR'
b.脱保护:酸性或碱性水解,复原羧基。
7、高考有机合成常见保护基速记表
被保护基团
保护试剂
保护产物
脱保护条件
耐受条件
醇-OH
二氢吡喃(THP)
THP 醚
稀水解
碱、氧化剂、RMgX
醛-CHO
乙二醇,无水酸
环状缩醛
稀酸水解
碱、、格氏
酮C=O
乙二醇,无水酸
环状缩酮
稀酸水解
碱、还原剂
-NH2
乙酸酐
酰胺
酸 / 碱加热水解
氧化剂、卤代烃
-COOH
醇,酸催化
酯
水解
多种反应条件
合成路线书写规范(答题得分模板)
一、硬性阅卷规则(扣分重灾区)
1. 必须用箭头,禁止等号=;多步连续合成用箭头串联。
2. 条件写在箭头上下:上方写试剂,下方写温度、压强、催化剂。
3. 有机物写结构简式,不能写分子式(写分子式直接整步不得分)。
4. 可逆反应(酯化、缩醛保护)依旧写箭头,不写可逆符号。
5. 副产物H2O、HBr等)可以不写,不用配平。
6. 步骤尽量简短,不写多余中间体;若中间体复杂必须完整写出。
7. 官能团保护三步固定格式:保护→主反应→脱保护,三步不能少。
8. 不能将多步试剂堆在同一个箭头上,一步一箭头。
9.通用格式:ABC……。
二、高频反应条件标准写法(直接背,考试直接抄)
反应类型
箭头上条件(标准答案写法)
卤代(烷烃光卤代)
Cl2/光照
苯环卤代
Br2/FeBr3(或Br2/Fe)
醇消去
浓H2SO4、170∘C
卤代烃消去
NaOH醇溶液、Δ
卤代烃水解
NaOH水溶液、Δ
醇催化氧化
O2/Cu,Δ
醛氧化(银氨)
①银氨溶液,Δ;②H+
醛氧化(新制)
①新制Cu(OH)2,Δ;②H+
酯化
浓H2SO4,Δ
酯碱性水解
NaOH水溶液,Δ
酯酸性水解
稀硫酸,Δ
加成
H2/Ni,Δ(Pt、Pd 也可)
醛 / 酮缩醛保护
乙二醇,无水浓硫酸(无水H+)
缩醛脱保护
稀H+(或稀盐酸,Δ)
醇 THP 保护
二氢吡喃,无水H+
THP 脱保护
稀盐酸
氨基乙酰化保护
乙酸酐(CH3CO)2O
酰胺脱保护
NaOH水溶液,Δ
三、四套答题模板(直接套用)
模板1:普通多步合成(最常用)
①格式:起始物中间体1中间体2目标产物
②实例:乙醇合成乙酸乙酯
CH3CH2OHCH3CHOCH3COOHCH3COOCH2CH3
模板2:需要官能团保护的合成路线(高频压轴)——固定三步范式:保护 → 目标转化 → 脱保护
①格式:原料被保护中间体反应后中间体目标产物
②实例:分子有醛基、碳碳双键,氧化双键保留醛基
R-CH=CH-CHOR-CH=CH-CH(OCH2)2HOOC-CH(OCH2)2HOOC-CHO
模板3:两步条件(银氨、新制氢氧化铜这类先碱性后酸化)
①注意:①②分号隔开,写在箭头上方
②实例:R-CHOR-COOH
模板4:合成路线简答题文字表述(若题目要求文字简述)
①答题句式:
a.ⅰ 将 XX 在 XX 条件下反应得到 A;
b.ⅱ A 与 XX 在 XX 条件下反应得到 B;
c. ⅲ B 经 XX 条件脱保护得到目标产物。
②注意:考试优先写化学箭头路线,文字版只在题干明确要求时写。
四、得分小技巧
1. 做题顺序:先逆推(从产物往回推),再正向书写合成路线;
2. 若不确定条件,可以写“一定条件”,比乱写错误条件强;但高频反应尽量写准确条件;
3. 保护类合成,先标记分子中所有活泼官能团,判断是否需要保护;
4. 书写时,碳骨架不要写错,双键、环、取代基位置不能移位。
五、考场避坑清单(阅卷高频扣分)
1.条件写不全:卤代烃消去只写NaOH,漏“醇溶液”,整步无分。
2.有机物写分子式,一律不得分,必须结构简式。
3.缩醛脱保护写NaOH水解,错误,只能写稀酸。
4.把两步反应试剂全部堆在同一个箭头上,一步箭头只能对应一步转化。
5.保护基写完忘记脱保护,产物带保护基团,0分。
6.H2加成条件漏催化剂 Ni/Pd,扣分。
7.银氨反应漏第二步酸化,产物写羧酸盐而不是羧酸。
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学科网(北京)股份有限公司
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