2.光刻机-【一战成名新中考】2024云南中考信息技术·题组特训

光刻机 光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。 生产集成电路的简要步骤： · 利用模版去除晶圆表面的保护膜。 · 将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。 · 用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。 其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。 一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种： · 模版和晶圆大小一样，模版不动。 · 模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。 其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流。 光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类： 高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。 位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。 生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。 1 学科网（北京）股份有限公司 $$ 光刻机 光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。 生产集成电路的简要步骤： · 利用模版去除晶圆表面的保护膜。 · 将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。 · 用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。 其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。 一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种： · 模版和晶圆大小一样，模版不动。 · 模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。 其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流。 光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类： 高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。 位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。 生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。 学科网（北京）股份有限公司 $$