内容正文:
第五章第三节提高配位滴定选择性的方法导学案
学习目标:
1、 了解提高配位滴定选择性的方法
2、 了解酸效应曲线和配位滴定的方式
课前学习
一、复习回顾:
1、 EDTA准确滴定金属离子必须满足的条件?
K稳 108,即:lg K稳≥ ;或c·K稳≥ ;
或lgc·K稳≥ .
2、 影响配位平衡的因素有哪些?其中影响最大的是哪一个?
课堂学习
EDTA有很强的配位能力,能与许多金属离子形成配合物,在实际工作中遇到的分析试液中常存在几种金属离子,用EDTA滴定时可能相互干扰。因此,提高配位滴定的选择性,就是要设法消除共存离子的干扰,以便准确地滴定待测金属离子。
(1) 选择滴定的条件------8、5、3规则:
(阅读课本P115-P118完成下列问题)
1、 准确滴定单一金属离子M的条件: 或:
或: 或: 。
⑴可计算出lgaY(H)≤ ,此时对应的PH就是滴定允许的
。若以金属离子的lgKMY为横坐标,以PH为纵坐标所绘制的曲线,就称为 。
⑵酸效应曲线应用:
① ,即:可以找出滴定各金属离子时所能允许的 PH。实际滴定时所采用的PH要比允许的最低PH
一些。
② ,利用曲线可以判断在一定的PH滴定某金属离子时,哪些离子有干扰。一般地:酸效应曲线上被测金属离子M 的离子都干扰测定。
③ 。
2、混合金属离子M、N,干扰离子N不干扰主反应M + Y MY的条件:
;此时计算出的lgaY(H)≥ ,此时对应的PH就是滴定允许的 。
3、混合金属离子M、N可以被分别滴定的条件:
或 。
(二)消除干扰的方法
(阅读课本P118-P122,完成下列问题)
1、控制溶液酸度:
根据滴定条件“8、5、3”规则,利用酸效应曲线,可以找出滴定金属离子时允许的最低 ,及共存离子N存在下滴定金属离子的最高
例如:铅、铋离子的连续测定时,在PH= 时,用EDTA滴定铋离子,铅离子不干扰,到达终点后加 调节溶液的PH为
,可滴定铅离子。
2、 利用掩蔽和解蔽:
⑴应用条件:适用于待测金属离子的配合物与干扰离子配合物的稳定常数相差不大,即:△lgK’ 。
⑵常用的掩蔽方法有 、 和 。
①配位掩蔽法:利用 与干扰离子形成稳定的配合物以消除干扰的方法。例如:测定水硬度时,可加入 来掩蔽铁离子和铝离子。
②沉淀掩蔽法:是利用干扰离子与掩蔽剂形成沉淀以消除干扰的方法。例如:在钙镁离子共存的溶液中,加入 ,使PH≥ ,则镁离子生成 沉淀,从而可直接测定钙离子。
③氧化还原掩蔽法:利用氧化还原反应改变干扰离子价态以消除干扰的方法。例如:在滴定铋离子和锆离子时,铁离子有干扰,可加入
或 ,将铁离子还原为亚铁离子而消除干扰。
④利用选择性的解蔽剂:即:将一些离子掩蔽,对某些离子进行滴定之后,利用解蔽剂使已被掩蔽的金属离子释放出来,这种方法称为 。
例如:滴定锌离子和铅离子时,可在氨性溶液中加入 掩蔽锌离子,以铬黑T为指示剂在PH=10时测定铅离子,然后加入 或
,再用EDTA滴定锌离子。 或
即为解蔽剂。
3、 预先分离:预先将干扰离子分离出来,然后再滴定被测离子。
4、选用其它配位剂:
除E