内容正文:
第三节 无机非金属材料
一、单选题
1.下列说法, 正确的是
A.硅在自然界中以游离态形式存在
B.二氧化硅常温下不能与NaOH溶液反应
C.石英主要成分是二氧化硅
D.二氧化硅不与任何酸发生反应
2.下列叙述错误的是
A.二氧化硅可用于生产玻璃 B.硅是应用最广泛的半导体材料之一
C.高纯度的硅可用于制造计算机芯片 D.硅在自然界中主要以单质形式存在
3.下列有关物质的性质上用途具有对应关系的是
A.晶体硅硬度大,可用于制作半导体材料
B.二氧化硅难溶于水,可用于制作光导纤维
C.二氧化氯具有强氧化性,可用作自来水消毒剂
D.浓盐酸具有挥发性,可用于实验室制备氯气
4.下列关于硅及其化合物的说法正确的是
A.单质硅是制造光导纤维的材料
B.石英坩埚不能用来熔融Na2CO3固体
C.硅元素的非金属性比碳元素的弱,自然界中存在游离态的硅
D.新型陶瓷(SiC)属于有机高分子材料
5.下列有关硅及其化合物的说法中不正确的是
A.在粗硅的提取中发生反应:2C+SiO22CO↑+Si,硅元素被还原
B.Si和SiO2均能与NaOH溶液反应生成硅酸钠
C.用SiO2制取硅酸,应先使二氧化硅与氢氧化钠溶液反应,然后再通入CO2
D.由Na2CO3+SiO2CO2↑+Na2SiO3可知硅酸的酸性强于碳酸
6.单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。用化学方法可制得高纯度硅,其化学方程式为:
①
②
③
下列有关上述反应的说法以及由上述反应得到的结论不正确的是
A.三个反应均是氧化还原反应 B.反应①和③是置换反应
C.反应②为硅重新被氧化的过程 D.H2的还原性强于HCl
7.科学家最新研制的利用氯化氢和氢气生产高纯硅的工艺流程如图所示:
容器①300℃中进行的反应①为Si(粗)+3HCl(g)=SiHCl3(l)+H2(g);容器②1100℃中进行的反应②为SiHCl3+H2=Si(纯)+3HCl。下列说法正确的是
A.高纯硅可用作光导纤维
B.粗硅的制法SiO2+CSi(粗硅)+CO2↑
C.反应①和②互为可逆反应
D.该工艺流程的优点是H2和HCl可循环使用
8.由制备高纯度硅的工业流程如图所示:
下列说法错误的是
A.硅元素在自然界中均以化合态形式存在
B.由步骤①中的反应可知,碳的非金属性比硅强
C.反应②产生的与反应③产生的可以循环使用
D.反应①②③均为在高温或较高温度下的氧化还原反应
9.NA表示阿伏加德罗常数的值。下列说法正确的是
A.石墨晶体中碳原子个数与碳碳键数之比为3:2
B.60gSiO2晶体中Si-O键的数目为2NA
C.标准状况下,22.4LCHCl3所含的分子数为NA
D.常温常压下,NO2与N2O4的混合物4.6g中含有的氧原子数目为0.2NA
10.NA为阿伏加德罗常数的值,下列说法正确的是
A.12.5mL16mol/L浓硫酸与6.5g锌共热,转移的电子数等于0.2NA
B.标准状况下,44.8LNO与22.4LO2混合后,气体中分子总数为2NA
C.30gSiO2晶体中含有SiO2分子的数目为0.5NA
D.标准状况下,11.2LHF含有氟原子的数目为0.5NA
11.下列有关硅及其化合物的说法中正确的是
A.硅酸钠属于盐,不属于碱,所以硅酸钠可以保存在磨口玻璃塞试剂瓶中
B.反应①,反应②Na2CO3+SiO2Na2SiO3+CO2↑,两反应是相互矛盾的,不可能都发生
C.粗硅制备单晶硅涉及反应之一:
D.虽然能与、反应,但不是两性氧化物
12.由粗SiO2 (含少量Fe2O3、Al2O3杂质)制备纯SiO2的流程如图所示,下列说法错误的是
A.X可用作木材防火剂
B.步骤Ⅱ中的主要反应是
C. SiO2是将太阳能转化为电能的常用材料
D.若在实验室中完成步骤Ⅲ,一般在坩埚中进行
13.根据下列实验操作、现象和所得到的结论均正确的是
选项
实验操作和现象
实验结论
A
向Na2SiO3溶液中通入适量CO2气体,出现白色沉淀
H2CO3的酸性比H2SiO3的酸性强
B
将稀盐酸滴入硅酸钠溶液中,充分振荡,有白色沉淀产生
非金属性:Cl>Si
C
将二氧化硅分别与氢氟酸溶液和氢氧化钠溶液反应,前者生成气体,后者二氧化硅溶解
二氧化硅为两性氧化物
D
向溶有SO2的BaCl2溶液中通入气体X,出现白色沉淀
气体X一定具有强氧化性
A.A B.B C.C D.D
14.下列各组中的物质在指定的分散系中能大量共存的是
A.空气:
B.水玻璃:
C.氨水:
D.pH=2的溶液:
15.Liepatoff规则:胶核总是选择性地吸附与其本身组成相似的离子形成胶粒。硅胶在生产、生活中有广泛应用。硅胶溶液组成如下:
下列叙述正确的是
A.