项目四任务一 比较法测量表面粗糙度(课件)-《极限配合与技术测量》同步教学(机工版.2015)

2023-12-18
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内容正文:

任务一 比较法测量表面粗糙度 CONTENTS 任务介绍 比较法测量表面粗糙度的方法 任务实施 任务总结 任务拓展 任务介绍 01 表面粗糙度定义 表面粗糙度是指物体表面凹凸不平的程度,通常以微观结构或纹理的形式表现。 表面粗糙度对物体的使用性能有重要影响,如耐磨性、抗疲劳性、抗腐蚀性等。 在机械制造、材料科学、生物医学等领域,表面粗糙度对产品的性能和使用寿命具有决定性影响。 通过控制表面粗糙度,可以提高零件的配合性能、减少摩擦和磨损,提高设备的效率和寿命。 表面粗糙度的重要性 在工业生产中,比较法测量表面粗糙度是一种常用的检测方法,适用于对零件表面质量进行快速、准确的检测。 特别是在汽车制造、航空航天、精密仪器等领域,比较法测量表面粗糙度被广泛应用于产品质量控制和生产过程中。 比较法测量表面粗糙度的应用场景 比较法测量表面粗糙度的方法 02 定义 01 比较样块法是通过将待测表面与已知表面粗糙度的标准样块进行比较,从而确定待测表面的粗糙度等级。 操作流程 02 首先,选择一个与待测表面粗糙度等级相近的标准样块;然后,将待测表面与标准样块进行比较,观察两者的表面形貌特征;最后,根据比较结果确定待测表面的粗糙度等级。 优点 03 比较法测量表面粗糙度的方法操作简单、直观,适用于快速评估表面粗糙度等级。 使用比较样块法 定义 表面轮廓仪法是通过测量待测表面的轮廓曲线,从而确定其表面粗糙度等级。 操作流程 首先,对待测表面进行加工处理,使其表面平整;然后,将表面轮廓仪的触针放置在待测表面上,通过移动触针或改变触针的刚度来测量轮廓曲线;最后,根据测量结果计算表面粗糙度等级。 优点 表面轮廓仪法可以获得更精确的表面粗糙度测量结果,适用于对表面粗糙度要求较高的场合。 使用表面轮廓仪法 干涉显微镜法是通过观察待测表面与标准反射镜之间的干涉现象,从而确定其表面粗糙度等级。 定义 首先,对待测表面进行抛光处理;然后,将标准反射镜放置在待测表面上,并调整干涉显微镜的参数;最后,通过观察干涉现象确定表面粗糙度等级。 操作流程 干涉显微镜法可以获得高精度的表面粗糙度测量结果,适用于对表面粗糙度要求非常高的场合。 优点 使用干涉显微镜法 任务实施 03 表面轮廓仪:用于测量表面粗糙度 比较样块:用于与被测表面进行比较,以得出粗糙度值 干涉显微镜:用于观察和测量表面微观形貌 触针式表面粗糙度仪:用于测量表面粗糙度 准备所需工具和设备 选择标准比较样块 选择一个具有已知表面粗糙度的标准比较样块,作为测量被测表面的参照物。 确定比较样块的材质和尺寸 确保比较样块的材质和尺寸与被测表面相似,以减小误差。 选取合适的比较样块 使用表面轮廓仪进行测量 将表面轮廓仪调整至正确的工作参数,如扫描速度、采样间距等。 将比较样块放置在表面轮廓仪的测量台上,调整样块位置,使其表面与测量台平行。 记录测量数据:使用表面轮廓仪对比较样块进行测量,记录测量数据。 将比较样块取下,将被测表面放置在测量台上,调整样块位置,使其表面与测量台平行。 将记录的测量数据输入到表面轮廓仪中,进行比较测量。 将比较样块放置在干涉显微镜的观察台上,调整样块位置,使其表面与观察台平行。 观察干涉条纹:通过干涉显微镜观察比较样块的干涉条纹,记录干涉条纹的变化情况。 观察干涉条纹:通过干涉显微镜观察被测表面的干涉条纹,记录干涉条纹的变化情况。 将比较样块取下,将被测表面放置在观察台上,调整样块位置,使其表面与观察台平行。 将干涉显微镜调整至正确的工作参数,如光源波长、干涉条纹间距等。 使用干涉显微镜进行测量 任务总结 04 优点 测量原理简单,操作方便 可测量较大面积的表面粗糙度 比较法测量表面粗糙度的优缺点 比较法测量表面粗糙度的优缺点 01 02 03 缺点 测量结果主观性较强,精度易受影响 对测量环境要求较低 不能用于测量具有复杂形状的表面 测量范围相对较小 比较法测量表面粗糙度的优缺点 触针法精度较高,但会对被测表面造成微小损伤 与光学法比较 比较法操作简单,成本较低,但精度易受主观影响 与触针法比较 比较法操作简单,对被测表面无损伤,但精度较低 光学法具有非接触、快速、无需标准样板等优点 01 02 03 04 05 06 比较法测量表面粗糙度与其他测量方法的比较 比较法测量表面粗糙度对生产和生活的影响 在生产中,比较法可用于快速检测表面粗糙度,控制产品质量 在生活中,比较法可用于评估物品表面的清洁度、磨损程度等,保障生活品质 任务拓展 05 选择合适的光源,确保光线照射在测量表面上时能够保持一致,避免因光线变化导致测量误差。 使用高精度的测量基准进行比较,确保基准的准确性和稳定性,以减小测量误差。 对同一表面进行多次测量,取平均值作为最终结果,以减小随机误差。 控制光源 精确测量基准 多次

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