内容正文:
电子从价带向导带跃迁
随温度变化微弱.
●随着温度升高,吸收边变成吸收尾.这是因为电子从价带向导带跃迁过程中,除了吸收光子,还吸收声子,因此所吸收光子的能量减小.并且,温度越高,所声子激发越强, 吸收尾越长.发射声子,吸收光子能量增大,但是被更强的直接跃迁所掩盖.
因激子效应明显增强(虚线表示无激子
效应情况).
●BEC束缚激子:平动能为0,吸收谱很窄.比较局域声子吸收谱(也很窄).
⑤
的乌尔巴赫尾
和
其中
为材料参数.
为
最低的自由激子能量,
发光谱
①激子极化激元发光非常微扰(即使在低温下).
▲半导体总发光效率
通常很低,对于
直隙材料,
▲原因:
●半导体内主要的复合过程是涉及缺陷中心非辐射复合过程(大部分辐射来自于
束 缚激子复合物,施主-受主对和其它缺陷中心).
●激子极化激元在传播中可能被杂质或声子散射,或被俘获.
●内反射. 在许多情况下,光子即使达到介质表面还可能被反射回来.LPB中瓶颈处,折射率n=5,典型临界角
容易发生全反射.
●自由激子极化激元复合发光还受到小逃逸层的限制.
极化强度
相驰豫时间.
为
小逃逸层厚度
作为比较,共振区内,
对应带间跃迁,激发光穿透距离为
激子扩散范围为
②光致发光
●光子被吸收, 产生e-h对;
●光子在样品体内传播:e-h对扩散与复合;
瓶颈区域
激子经历寿命
后复合,发出光子,
该光子在晶体中传输一短距离后又产生新的激子,这是激子传输能量的一种重要形式,可以在相当大距离范围进行,已由发光实验直接观察到.
●最后激子复合向表面出射的光子.
在光致发光实验中,最强的激发(带间激发)一般发生在样品表面附近. 光子经过
多次循环过程,不会传播到远离表面处,
因此,最容易从光照面出射(称为前表面发光).对薄样品,在激发光吸收较弱的情况下,背向发光(透射光)也是可能的.
③光谱
激发光谱PLE:
即发射光强度随激发
光频率的分布.
对分析发光的激发过程,激发机制以及提高发光效率有重要意义.
发射光谱PL:
即激发光频率一定,发射光强度随发射光频率的分布.
对研究与激发与辐射复合过程有关的半导体电子态,揭示辐射复合发光的物理过程有
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