内容正文:
半导体的表面声子极化激元
半导体的表面声子极化激元
1.色散
2.实验
表面波的波矢量为
反射率R下降意味着表面声子极化激元产
生
受抑全反射
实验结果:
13.8局域声子模
1.色散
2.实验
●GaAs中掺入Si,Si取代Ga(作为施
主),记为
;Si取代As(作为受主),
记为
●掺入Li 降低自由载流子浓度(Si作为受主与施主不平衡).
●吸收谱
Si和Li的质量较小,而弹性系数并不小,
原子序数
Si 14 IV族,
Ga31III族,
As33V族
Li 2 I族,
因此,局域模频率高于体模.
GaAs: Si, Li
13.9 等离子激元
1.激发方式:
①高浓度掺杂.
②高能量激发.
2.自由电子气
若
在
区域,介电
折射率为纯虚数,反射率接近1.
函数实部小于0,相应
R陡峭下降部分称为等离子边缘.
当
该图表明,随着载流子的密度增加,等离子频率增加,
根据
值可以
确定
金属中等离子频率在5~15eV.
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