内容正文:
晶体的晶格常数
GaAs可以与混晶
通常y的取值限于
等沉积层晶格常数匹配.
●另外一种应用广泛的衬底材料是InP,它与III-V族混晶的晶格常数匹配,如
四元混晶
的晶格常数和能
隙都是可调的.
●近年来,III-V族系统成功用于制作蓝光和紫外光发射器和激光二极管,因而得到广泛应用,例如GaN及其与InN和AlN混晶.由于与GaAs存在巨大的晶格失配,该系统一般生长在SiC,ZnO或
衬底上.
●ZnSe用于制作蓝绿光发射器结构,通常生长在GaAs上,晶格匹配几乎完美,尽管III-V和II-VI族化合物界面间存在问题。
I型系统由于可以制作蓝绿至黄光领域激
光二极管方面应用得到高度关注,该系统
采用ZnSe,
为势阱,
为势垒。
4.应变层超晶格
● GaAs上生长
ZnSe上生长
II型CdS/ZnSe,
或CdSe/CdS超晶格
IV族元素C,Si和Ge形成应变层超晶格.
●晶格失配对生长层产生影响.
▲若生长层浸润衬底,则形成拉长或压缩的应变层. 平面层伸展通常导致晶格生长方向压缩畸变 ,反之亦然.
储存于应变层中弹性能量随着层厚度增
在许多情况下,晶格常数不匹配是不可避免的.
加, 直到某个临界厚度
晶格开始驰豫.
驰豫导致位错形成,如GaAs上的CdS.
位错的存在造成不良的影响,因为它们产生散射和非辐射中心, 使得平面内载流子的流动性和发光效率降低. 对于存在应变的ZnSe激光二极管结构,位错的形成(和增加)限制了载流子寿命,若达到一定值, 则无法在商业设备中使用.
▲另外一种可能结果是生长层开始在浸润层上形成一些小岛,这些小岛可以驰豫到本身的晶格常数. 该生长模式中,生长层的厚度通常仅限于(M)QW(或SL)临界厚度之内.一般超晶格的周期数不易过多(例如50至100).几个周期之后,中间的晶格常数分别导致在两种不同材料中二维压缩和伸展应变,以及相应地垂直生长
层的单轴畸变,这称为独立式超晶格.
●应变对能带产生影响
▲能隙的宽度经形变势取决于应变,以及应变影响下Γ点重穴带和轻穴带之间的分裂,该效应不包括量子化能带的分裂.
▲通常压缩和伸展应力如下图。对于二维压缩应变,能隙变宽,重穴价带远离导带. 对于二维拉伸应变,结果正好相反.
二维压缩
二维拉伸
无应变
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