内容正文:
半导体浅能级杂质
1.轻度掺杂
①施主杂质
●施主原子的能级低于本征半导体的导带底,施主原子经热电离,填充在导带中,
成为带正电中心,可束缚电子.
电子可以在晶体中运动.
●施主通常由被取代原子所在族的右边取代原子形成,如N或P取代Ge或Si, Si取代GaAs中Ga,Cl取代ZnSe中Se,Ga或In取代Zn等等.另外,施主也可由有一个弱束缚电子的填隙原子形成,如II-VI化合物中H,Li或Na.
● n型半导体:主要靠电子带电.
●施主电离能
Ⅳ族在Ge 和Si中
与室温下
可比,因此, 室温下施主杂
质绝大部分是电离的.
②受主杂质
●受主杂质:能够从价带接受电子,自身成为负离子的杂质.
h填充在价带中,可以在晶体中运动.
成为带负电中心,可束缚空穴.
●受主通常由被取代原子所在族的左边取代原子形成,如Ga或B 取代Ge或Si, 由如Li或Na 取代II-VI化合物中阳离子, N取代阴离子, GaAs 中Si取代As,而Be取代Ga.
●受主电离能
Ⅲ族原子在Ge 和Si中
● p型半导体:主要靠空穴带电.
与室温下
可比,因此, 室温下受主杂质
绝大部分是电离的.掺入少量受主杂质可
使空穴浓度大大增加.
③浅能级杂质
●带电中心形成附加(短程)势场,有可能
●类氢模型
使载流使子束缚在杂质或缺陷周围,产生局域态,其能级位于能隙中.
严格理论可以证明:只要晶体中附加势场变化足够缓慢,导带中电子在该势场中的运动就可以由有效质量加以描述.电子围绕正电中心的运动与围绕氢原子核的运动完全相似,只是库仑势场的作用大大
Ge
Si
削弱,
束缚能为
其中
为氢原子里德堡能量,
为主量子数,ε为介电常数.
对于轨道半径
范围从1至20nm,取决于材料参数.
归结为有效质量的利用.另外,
形成施主或受主原子的化学性质也会产生影响,这称为中心晶胞修正,或化学移动.
随着浅施主或受主的轨道半径减小,
●类似于声子局域模,浅施主或受主的波函数可以描述为布洛赫波函数的叠加,
取值范围增大.
●热平衡条件下,施主或受主的占有率由费米统计决定,
其中
描述能级的简并度,例如电离施
主基态对应电子自旋相反两个状态.
④施主或受主对:一对施主或受主在空间非常接近,它们的波函数重叠.
施主或受主对不但存在于体材料中,也存在于量子结构中, 但是情况要复杂些.
例如电子对施主束缚能取决于施主相对势垒材料界面的位置.
⑤与(M)QW有关的两种掺杂方法:
δ掺杂是在外延生长过程中掺入二维杂质原子层,生长方向的浓度几乎是δ函数截面.
调制掺杂:
在(M)QW势垒中掺入杂质原子. 电子(空
$$