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半导体中电子系统
半导体中电子系统
价带和较低导带间电子跃迁决定的.
1.电子能带结构
金属 半导体 绝缘体
金属:
存在一个或多个部分填充的导带,或一个完全填满的导带与另一个空导带重叠(碱土金属).费米能级位于导带中.
价带VB:低能带,T=0,完全填满.
导带CB:高能带,部分填满或空带.
能隙
导带与价带之间距.
若
称为半金属.如灰锡
绝缘体
费米能级位于能隙中.
存在一个或多个填满的价带,导带为空
带,
电子被激发后,会移动.)
费米能级位于能隙中. (T=0,精确在中间.
半导体:
( 金刚石
仍被认为半导体,因为可进行n或p掺杂.)
若
称为窄带半导体.
若
称为普通半导体.
若
称为宽带半导体.
2.dir 直接半导体,indir 间接半导体.
直接半导体
最低导带的极小值与最高价带的极大值在
第一布里渊内同一点
(在Γ点或其它点).
光跃迁过程对应光子能量
不涉及声子的吸收和辐射.
间接半导体
最低导带的极小
值与最高价带的
极大值不在第一
布里渊内同一点,
光跃迁过程涉及声子的吸收和辐射(动量守恒).
3.能带的产生
离子键:阴离子满壳层形成价带;
阳离子 空壳层形成导带.
CdS:S原子
Cd原子
3p满壳层形成价带,
5s空壳层形成导带.
共价键:成键态形成价带;
反成键态形成导带.
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