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电路对电容率的贡献
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电路对电容率的贡献
在弱的交变电场作用下,畴壁将在其平衡位置附近振动,显然这是对电容率的一种贡献。而且不难想象,当交变场的频率很高时,畴壁将因惯性不能跟随电场的运动,于是这一部分贡献消失。
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图6.16时除了多晶钛酸钡室温电容率的频率特性。在109Hz和1011Hz附近实部显著下降并在稍高的频率出现虚部的峰值。1011Hz附近的色散在单畴单晶上也观察到了,因此它与电畴无关。109Hz附近的色散则是单畴晶体上没有的,被认为是畴壁振动的结果。频率较低时,畴壁振动对电容率由一个恒定的贡献。频率超过109Hz时,畴壁不再能跟随电场的振动,该频率是畴壁运动的弛豫频率。
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关于畴壁运动与电容率及其他参量的关系已有许多研究。在频率很低时,畴壁运动受限于弹性恢复力,后者正比于前者对其平衡位置的偏离。对于在单晶内运动的90畴壁,恢复力也来源于畴壁运动造成的长程内电场。由于90畴壁的集体运动,晶粒发生弹性形变,因而出现内应力,他对畴壁运动产生恢复力。同时畴壁运动改变了晶粒间界出极化电荷的分布,造成内电电场,他对畴壁运动产生电恢复力。
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在频率很高时则还必须计入动力学效应。惯性大小决定于畴壁的有效质量。陶瓷中畴壁的有效质量正比于晶粒的质量,因为集体位移造成的弹性形变是整个晶粒都参与了运动。摩擦阻力正比于畴壁的速度。阻力的来源之一是格波在运动着的畴壁上的反射,由于实际样品中电畴结构十分复杂,较早的理论计算与实验结果比较都未能达到定量的符合。
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最近,Pertsev等的工作有新的进展,他们计算了PZT陶瓷中畴壁振动对电容率的贡献,与实际观测到的接近1GHz时的介电色散符合得很好。
他们假设晶粒中有足够的可移动载流子以屏蔽自发极化,因此不需要出现180畴来消除退极化场,只形成90畴以降低应变能。
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在交变电场作用下,畴壁因受到与时间有关的力fA(t)而偏离平衡位置。畴壁运动而产生一内电场,并改变了本来就存在的内应力场。这两种内场对畴壁将施加以附加的力fI。设畴壁的位移为Δl(t),则运动方程为:
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式中m时单位面积畴壁的质量, 是内场作用力的平均值。假设外电场是均匀的,故 不需平均。为求出 的具体表达式必须计算晶粒内的电场。在畴壁可振动的频率以下,对内电场可用准静态近似,即认为晶粒内任何一点内电场E(r,t)正比于畴壁位移Δl(t)。
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与此相反,内应力场的计算则是一个动力学问题,因为弹性波的滞后效应随着畴壁振动频率的升高而显著增强。利用弹性动力学理论计算内应力场的分布以后,对晶粒中所有畴壁面积求平均,既可得出
中的弹性力分量。同样,求E(r,t)的平均得出 中的电场力分量。将有关结果代入式(6.49),发现畴壁运动特性随着频率范围不同而差别很大。
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令*=Ct/g,这里Ct时横声波的声速,g是晶粒尺寸。当外场频率远小于*时,运动方程可简化为
式中m*为畴壁的有效质量。第二项表现了辐射反作用,正如运动着的电荷对本身有辐射反作用一样。第三项代表静态恢复力,即忽略了各种动力学效应时的恢复力。
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估计有效质量m*比m大的多,故略去m,于是得出畴壁振动振幅与频率的关系分别为
式中P0为自发极化,EA为电场振幅。
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在有效质量m*和力系数k1,k2的表达式中代入适当数值可计算出ΔlA和tan。计算表明,在0<<*的整个范围,振幅随频率的升高仅有微弱的增大,即使在=*时,ΔlA相对于静态时的增加仍不到10%。畴壁振动相对于外场的落后也很小,最大相位差只有约为一度。这种振动对电容率实部的贡献是一个基本恒定的量,对虚部的贡献则近似为零。
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