内容正文:
硅和锗的能带结构
晶体结构和结合性质
半导体中的电子状态和能带
半导体中电子的运动 有效质量
本征半导体的导电机构 空穴
回旋共振
硅和锗的能带结构
硅和锗的能带结构
硅的导带结构
硅和锗的能带结构
硅的导带结构
硅和锗的能带结构
硅的导带结构
硅和锗的能带结构
硅的价带结构
价带顶位于k=0,即在布里渊区中心。
价带顶在k=0处二度简并,即同一个k对应两个E(k),在k=0处,能量相重合,这对应于极大值相重合的两个能带,表明硅有两种有效质量不同的空穴。有效质量较大的空穴,称为重空穴,有效质量较小的空穴,称为轻空穴。
硅和锗的能带结构
硅的能带结构
硅和锗的能带结构
锗的能带结构
硅和锗的能带结构
能带与温度的关系
作 业
课后习题:1,2
补充习题:
1、原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同?原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同?
2、晶体体积的大小对能级和能带有什么影响?
3、如何理解“回旋共振有效质量 不仅通过 , 和而与能带结构有关,而且还与磁场和等能面主轴之间的相对方位有关”。
发展趋势
普通禁带—宽禁带
常规半导体:
EG ~1 eV
Si EG = 1.1 eV
GaAs EG = 1.4 eV
宽禁带半导体(WBG)
EG > 2 eV
4H-SiC EG = 3.26 eV
6H-SiC EG = 3.0 eV
GaN EG = 3.39 eV
AlN EG = 6.1 eV
AlGaN EG = 3.39 ... 6.1 eV
ZnO EG = 3.32 eV
C EG = 5.5 eV
举例
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发展趋势
三维—低维(二维、一维、零维)
举例
12
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