内容正文:
N沟道耗尽型MOSFET
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二氧化硅绝缘层中掺有大量的正离子
可以在正或负的栅源电压下工作,而且基本上无栅流
N沟道耗尽型MOSFET
1. 结构和工作原理(N沟道)
图线什么的不懂啊
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主要内容
MOS场效应管
MOSFET放大电路
结型场效应管
各种放大器件电路性能比较
重点与总结
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n :反型层中电子迁移率
Cox :栅极(与衬底间)氧化层单位面积电容
本征电导因子
其中
Kn为电导常数,单位:mA/V2
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饱和区
(恒流区又称放大区)
vGS >VT ,且vDS≥(vGS-VT)
是vGS=2VT时的iD
V-I 特性:
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(2)转移特性
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(N沟道增强型)
2. V-I 特性曲线及大信号特性方程
二次曲线?
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P沟道MOSFET
vGS>VT
VT为负值
截止区
vGS <VT ,且vDS≥(vGS-VT)
可变电阻区
vGS <VT ,且vDS<(vGS-VT)
饱和区
平方?
乱七八糟
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实际上饱和区的曲线并不是平坦的
L的单位为m
当不考虑沟道调制效应时,=0,曲线是平坦的。
修正后
沟道长度调制效应
真不太懂
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一、直流参数
1. 开启电压VT (增强型参数)
2. 夹断电压VP (耗尽型参数)
3. 饱和漏电流IDSS (耗尽型参数)
4. 直流输入电阻RGS (109Ω~1015Ω )
二、交流参数
1. 输出电阻rds
NMOS增强型
当不考虑沟道调制效应时,=0,rds→∞
MOSFET的主要参数
乱七八糟,我记不住
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2. 低频互导gm
考虑到
则
其中
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极限参数
1. 最大漏极电流IDM
2. 最大耗散功率PDM
3. 最大漏源电压V(BR)DS
4. 最大栅源电压V(BR)GS
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