内容正文:
P型(空穴型)半导体
P型(空穴型)半导体
+4
+4
+3
+4
+4
P型半导体
少子——自由电子
多子——空穴
空 穴
本征半导体中掺入少量三价(铝、硼、锢)元素构成。
这种杂质原子能吸收电子,称为“受主杂质”。
三、杂质半导体中(多子和少子)热平衡载流子 浓度?
N型半导体
(质量作用定理)
(电中性方程)
P型半导体
杂质半导体呈电中性
少子浓度取决于温度。ni
多子浓度取决于掺杂浓度。
P6,例3:杂质补偿:掺入不同的杂质(相反性质),可改变导电类型。电子型,空穴型。五价(磷、砷、锑等)。
(1-1-2)
(1-1-3)
(1-1-4)
(1-1-5)
掺入杂 质对本征半导体的导电性有很大
的影响,一些典型的数据如下:例1—3。
T=300 K室温下,本征硅的电子和空穴浓度:
(1-1-1) ni = n = p =1.5×1010/cm3
1
本征硅的原子浓度: 4.96×1022/cm3
3
以上三个浓度基本上依次相差106/cm3 。
2
例1。掺杂后, N 型半导体中(多子)自由电子浓度:
n=8×1016/cm3, 少子2.8×103/cm3
杂质对半导体导电性的影响
例3:硅,五价,N型;再三价(浓度更高),P型。杂质补偿。
1.1.3 两种导电机理——漂移和扩散
载流子在电场作用下的运动,称为漂移运动,所形成的电流,称为漂移电流。看书P1-1-6图。P、N。
漂移电流密度
总漂移电流密度:
迁移率
漂移与漂移电流
外加电场,(少子)定向运动。
注意:
(1-1-6)
(1-1-7)
(1-1-8)
电导率:
半导体的电导率
电阻:
电压: V = E l
电流: I = S Jt
+ -
V
长度l
截面积S
电场E
I
(1-1-9)
载流子在浓度差作用下的运动,称为扩散运动,所形成的电流,称为扩散电流。P、N。
P10,导/半区别, 有/无电场 = 有/无 电荷量差。浓度差。
扩散电流密度:
扩散与扩散电流
N 型 硅
光照
n(x)
p(x)
载流子浓度
x
no
po
光照或恒温,浓度差,(多子)定向运动。
注意:
(1-1-10)
(1-1-11)
<0
<0
1.2 P+N结
P6例3,用掺杂工艺,把P型、N型半导体在原子级上紧密有机结合,P区与N区的交界面就形成了PN结。
掺杂
N型
P+型
It
Id
1.2.1 动态平衡下的P+N结
阻止多子扩散
出现内建电场
开始因浓度差
产生空间电荷区
引起多子扩散
利于少子漂移
最终达动态平衡
注意: PN结处于动态平衡时,扩散电流与漂移电流相抵消,通过PN结的电流为零。
一、(PN结)阻挡层形成的物理过程
空间电荷区(一定宽度)
即P+N结
杂质离子
宽
9
加动画
①PN结的电位差为VB
(N区
P区)
P11 ②对称结与不对称结
③空间电荷区,缺少多子,所以也称耗尽层。
注意:掺杂浓度(Na、Nd)越大,内建电位差 VB
越大,阻挡层宽度 l0 越小(1-2-5)。Xn、Xp
二、内建电位差:
三、阻挡层宽度 :
室温时
锗管 VB 0.2 ~ 0.3V
硅管 VB 0.5 ~ 0.7V
热电压
26mV(室温)
(1-2-3)
(1-2-2)
(1-2-5)
(1-2-1)
温度的电压当量
11
加动画
本征半导体、杂质半导体。
复习:本节中的有关概念
自由电子、空穴。
N型半导体、P型半导体。
多数载流子、少数载流子。
施主杂质、受主杂质。
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