2023届山东省烟台市高三下学期高考适应性测试(二模)物理试题

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2023-05-25
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资源信息

学段 高中
学科 物理
教材版本 -
年级 高三
章节 -
类型 试卷
知识点 -
使用场景 高考复习-二模
学年 2023-2024
地区(省份) 山东省
地区(市) 烟台市
地区(区县) -
文件格式 ZIP
文件大小 878 KB
发布时间 2023-05-25
更新时间 2023-05-28
作者 匿名
品牌系列 -
审核时间 2023-05-25
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价格 3.00储值(1储值=1元)
来源 学科网

内容正文:

2023年高考适应性测试(一) 物理 1.答题前,考生先将自己的姓名、考生号、座号填写在相应位置。 2.选择题答案必须用2B铅笔(按填涂样例)正确填涂;非选择题答案必须用0.5毫米黑色签字笔书写,字体工整、笔迹清楚。 3.请按照题号在各题目的答题区域内作答,超出答题区域书写的答案无效;在草稿纸、试题卷上答题无效。保持卡面清洁,不折叠、不破损。 一、单项选择题:本题共8小题,每小题3分,共24分。在每小题给出的四个选项中,只有一项是符合题目要求的。 1.放射性同位素钍232经α、β衰变会生成氡,其衰变方程为。则下列说法中正确的是 A.衰变方程中X=2 B.氡核的比结合能大于钍核的比结合能 C.钍核α衰变的半衰期等于其放出一个α粒子所经历的时间 D.衰变后α粒子、β粒子与氡核的质量之和等于衰变前钍核的质量 ( x /m 甲 x 0 O /( s · m -1 ) 乙 0.5 x 0 )2.甲、乙两物体沿x轴正方向做直线运动,某一时刻两物体以速度v0同时经过O点,之后它们运动的图像如图所示,则甲、乙两物体速度从v0增加到2v0的过程,下列说法中正确的是 A.速度均随位移均匀变化 B.速度均随时间均匀变化 C.经历的时间之比为1:2 D.经历的时间之比为2:1 3.2021年5月15日,天问一号在火星上着陆,首次留下中国印迹,人类探索火星已不再是幻想。已知火星的质量约为地球的,半径约为地球的,自转周期为T(与地球自转周期几乎相同)。地球表面的重力加速度大小为g,地球的半径为R。若未来在火星上发射一颗火星的同步卫星,则该同步卫星离火星表面的高度为 A. B. C. D. ( 甲 B t/ ( × 10 -2 s ) e/ V 22 - 22 2 1 乙 0.5 1.5 11 0 )4.如图甲所示,在水平向右的匀强磁场中,匝数为100匝的矩形线圈绕与线圈平面共面的竖直轴匀速转动,从线圈转到某一位置开始计时,线圈中的瞬时感应电动势e随时间t变化的关系如图乙所示。则下列说法中正确的是 A.e=0时,穿过线圈的磁通量为零 B.t=0时,线圈平面与磁场方向夹角为30° C.瞬时感应电动势e随时间t的变化关系为(V) D.线圈转动一圈的过程中,穿过线圈磁通量的最大值为Wb 5.一同学将针筒的针拔除后,将该端封闭一定质量的理想气体做成弹射玩具,该同学先缓慢推动推杆将针筒内气体进行压缩,然后松开推杆,压缩气体膨胀将推杆弹射,若推杆缓慢压缩气体过程中针筒内气体温度不变,推杆弹射过程中针筒内气体与外界无热交换,则下列说法中正确的是 A.推杆压缩气体过程,针筒内气体吸热 B.推杆压缩气体过程,针筒内气体压强减小 C.推杆弹射过程,针筒内气体内能增加 D.推杆弹射过程,针筒内气体分子平均动能减少 ( φ x A B O M N )6.两个所带电荷量相等的点电荷固定在x轴上A、B两点,A、B与坐标原点O的距离相等,以无穷远处为电势零点,x轴上各点电势φ随坐标x分布的图像如图所示,M、N是x轴上两点,其中M点比N点距离O点远,将一带负电的试探电荷沿x轴从M点移动到N点的过程中,下列说法中正确的是 A.电场力始终对试探电荷做正功 B.试探电荷在M点具有的电势能比在N点少 C.试探电荷在M点受到的电场力比在N点小 D.试探电荷在M、N两点受到的电场力方向相同 7.水面上漂浮一半径为R=0.25m的圆形荷叶,一条小蝌蚪从距水面h=m的图示位置处沿水平方向以速度v=0.05m/s匀速穿过荷叶,其运动的轨迹与荷叶一径向平行,已知水的折射率为,则在小蝌蚪穿过荷叶过程中,在水面之上看不到小蝌蚪的时间为 ( v h R 小蝌蚪 )A.3s B.4s C.5s D.6s ( B A a b c d e f )8.水平墙上a、d两点栓接一多功能挂物绳,绳子上b、c两点分别悬挂上物体A、B后,其静置状态如图所示,墙上两点e、f分别在b、c两点正上方,且ae=ef=fd,eb:fc=10:11,绳子质量忽略不计,则物体A、B的质量之比为 A.1:2 B.2:3 C.3:4 D.4:5 二、多项选择题:本题共4小题,每小题4分,共16分。在每小题给出的四个选项中,有多项符合题目要求。全部选对的得4分,选对但不全的得2分,有选错的得0分。 ( 传统光刻 投影物镜 浸没式光刻 掩膜 硅片 浸没液体 光刻胶 )9.光刻机又名“掩模对准曝光机”,是制造芯片的核心装备,它是利用光源发出的紫外线,将精细图投影在硅片上,再经技术处理制成芯片。为提高光刻机投影精细图的能力,在光刻胶和投影物镜之间填充液体,提高分辨率,如图所示。则加上液体后,下列说法中正确的是 A.紫外线进入液体后光子能量增加 B.紫外线在液体中的波长比在真空

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