专题4《分子空间结构与物质性质》检测题2022-2023学年下学期高二化学苏教版(2019)选择性必修2

2023-05-23
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专题4《分子空间结构与物质性质》检测题 一、单选题 1.下列有关说法或各组性质的比较中,正确的有几项 ①12C、13C、14C是碳的三种同素异形体 ②H2S的电子式可表示为 ③沸点:NH3>AsH3>PH3 ④离子还原性:S2->Cl->Br->I- ⑤酸性:HClO4>HBrO4>HIO4 ⑥金属性:Pb>Sn>Si ⑦气态氢化物稳定性:HF>HCl>H2S A.2 B.3 C.4 D.5 2.化学家为世界的进步与发展做出巨大贡献,下列有关说法错误的是 A.中国科学院院士侯德榜创立了中国人自己的制碱工艺——侯氏制碱法 B.荷兰物理学家范德华研究出分子间作用力——范德华力 C.美国化学家鲍林提出杂化轨道理论——解释分子的空间结构 D.德国科学家F.Hund提出洪特规则——电子在能量相同的轨道上排布时,总是尽可能分占不同的轨道且自旋方向相反 3.下列说法中正确的是 A.键与键的对称性相同 B.基态的电子占据的最高能层符号为N C.Mg原子有12种不同空间运动状态的电子 D.1s电子云呈圆形,表示电子绕原子核做圆周运动 4.在通常条件下,下列比较正确的是 A.熔点:CO2>KCl>SiO2 B.水溶性:HCl>CH4>SO2 C.键角:CH4>H2O>NH3 D.键能:H—F键>H—Cl键>H—Br键 5.下列组合中,中心离子的电荷数和配位数均相同的是 A.、 B.、 C.、 D.、 6.下列排列顺序正确的是 ①热稳定性:            ②原子半径: ③酸性:        ④熔沸点: A.①③ B.②④ C.①④ D.②③ 7.以钒化合物作催化剂制备高纯度次氯酸的机理如图,已知钒元素V最高化合价为+5价,N(His404)、 N(His496)为氨基酸,下列说法不正确的是 A.反应①④中,都形成配位键,都有氢氧键的断裂和形成 B.反应过程中,钒化合物甲是催化剂,乙、丙、丁、戊是中间产物 C.在该催化循环过程中,中心原子V的化合价和VSEPR模型发生了改变 D.此图钒化合物的每一次循环使无机物发生的净反应:H2O2+Cl-+H+=HOCl+H2O 8.的气态分子结构如图1所示,硼酸()晶体结构为层状,其二维平面结构如图2所示。下列说法错误的是 A.晶体中含有氢键 B.硼酸为弱酸图2 C.图1和图2两个分子中B原子分别采用杂化、杂化 D.分子的稳定性与氢键无关 9.下列关于共价晶体、分子晶体的叙述中,正确的是 A.在晶体中,每个硅原子和2个氧原子形成2个共价键 B.分子晶体中一定存在共价键 C.HI的相对分子质量大于HF,所以HI的沸点高于HF D.1 mol金刚石中的C—C键数是2 10.丙氨酸()分子为手性分子,存在手性异构体,其结构如图所示: 下列关于丙氨酸的两种手性异构体(Ⅰ和Ⅱ)的说法正确的是 A.Ⅰ和Ⅱ分子中均存在2个手性碳原子 B.Ⅰ和Ⅱ呈镜面对称,都是非极性分子 C.Ⅰ和Ⅱ分子都是极性分子,只含有极性键,不含非极性键 D.Ⅰ和Ⅱ所含的化学键相同 11.有关键能数据如下表,晶体硅的燃烧热为989.2 kJ·mol-1,则x的值为 化学键 Si—O O=O Si-Si 键能/kJ·mol-1 x 498.8 176 A.423.3 B.460 C.832 D.920 12.近年,我国在新型材料研究领域取得丰硕成果。下列说法正确的是 A.富勒烯、石墨烯等碳纳米材料均属胶体 B.以石英砂、焦炭、和为原料可制得高纯硅 C.第五、六、七周期的过渡元素为稀土元素 D.由两种或两种以上物质通过一定作用力得到的共混物属于超分子 13.化合物入是近年来采用的锅炉水添加剂,其结构简式如图,A能除去锅炉水中溶解的氧气。下列说法正确的是 A.A分子易溶于水 B.A分子中所含的σ键与π键个数之比为10:1 C.A分子中所有原子都在同一平面内 D.A分子中C、N均为杂化 14.关于配合物[TiCl(H2O)5]Cl2·H2O的下列说法错误的是 A.配位体是Cl-和H2O,Cl-和H2O提供孤对电子 B.Ti元素位于元素周期表的d区 C.配离子是[TiCl(H2O)5]2+,配位数是6 D.含0.1mol该配合物的溶液与足量AgNO3溶液反应,生成0.3molAgCl沉淀 15.二茂铁[(C5H5)2Fe]的发现是有机金属化合物研究中具有里程碑意义的事件,它开辟了有机金属化合物研究的新领域。已知二茂铁的熔点是 173℃(在100℃以上能升华),沸点是249℃,不溶于水,易溶于苯、乙醚等有机溶剂。下列说法不正确的是 A.二茂铁属于分子晶体 B.在二茂铁中,C5H与 Fe2+之间形成的化学键类型是离子键 C.已知环戊二烯的结构式(如图),则其中仅有 1 个碳原子采取 sp3杂化 D.环戊二烯中所有碳原子一定共平面 二、填

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