内容正文:
半导体三极管
半导体三极管
BJT的结构简介
放大状态下BJT的工作原理
BJT的V-I特性曲线
BJT的主要参数
本章主要讲述如何构建一个合乎自身要求的放大电路。
如何实现放大,放大倍数的大小受到哪些因素/元件参数的影响?
放大电路如何获得尽可能多的信号能量?通过改变哪些参数就可以实现?
放大电路的输出信号如何才能不受外界负载变化的干扰,实现稳定输出。
设计放大电路,有多少种电路模型可以供你选择,这些模型的各自特色又在哪里?
4.1.1 BJT的结构简介
(a) 小功率管 (b) 小功率管 (c) 大功率管 (d) 中功率管
半导体三极管的结构示意图如图所示。它有两种类型:NPN型和PNP型。
4.1.1 BJT的结构简介
(a) NPN型管结构示意图
(b) PNP型管结构示意图
(c) NPN管的电路符号
(d) PNP管的电路符号
结构特点:
• 发射区的掺杂浓度最高;
• 集电区掺杂浓度低于发射区,且面积最大;
• 基区最薄,一般在几个微米至几十个微米,且掺杂浓度最低。
管芯结构剖面图
集成电路中典型NPN型BJT的截面图
4.1.1 BJT的结构简介
三极管的放大作用:特定的外部条件实现了三极管的载流子传输,在宏观上就表现为在输出端得到与输入小信号形状相同的大信号。
外部条件:发射结正偏
集电结反偏
4.1.2 放大状态下BJT的工作原理
1. 内部载流子的传输过程
发射区:发射载流子(Je正偏)
集电区:收集载流子(Jc反偏)
基区:传送和控制载流子
(以NPN为例)
双极型三极管或BJT (Bipolar Junction Transistor)。
IE=IB+ IC
放大状态下BJT中载流子的传输过程
IC= ICN+ ICBO
放大状态下BJT中载流子的传输过程
少数载流子的运动
基区空穴的扩散
因发射区多子浓度高使大量电子从发射区扩散到基区
因基区薄且多子浓度低,使极少数扩散到基区的电子与空穴复合
因集电区面积大,在外电场作用下大部分扩散到基区的电子漂移到集电区
IE=IB+ IC
IC= ICN+ ICBO
2. 电流分配关系
根据传输过程可知
通常 IC >> ICBO,不考虑少子影响
为电流放大系数,它只与管子的结构尺寸和掺杂浓度有关,与外加电压无关。一般 = 0.90.99
IE=IB+ IC
载流子的传输过程
IC= ICN+ ICBO
是另一个电流放大系数,同样,它也只与管子的结构尺寸和掺杂浓度有关,与外加电压无关。一般 >> 1
2. 电流分配关系
根据
IE=IB+ IC
IC= ICN+ ICBO
且令
ICEO= (1+ ) ICBO
(穿透电流)
共基极放大电路
4. 放大作用
若
vI = 20mV
电压放大倍数
使
iE = -1 mA,
则
iC = iE = -0.98 mA,
vO = -iC• RL = 0.98 V,
当
= 0.98 时,
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