内容正文:
放大电路的工作点稳定问题
放大电路的工作点稳定问题
一、温度对工作点的影响
三个因素:
1. ICBO: T ,电子空穴对, ICBO , ICEO
2. VBE: T ,载流子运动加快,PN结的阻档减弱,正向结电阻 VBE.
VBE具有负温系数–2.2mV/C
27.
T为3DG6,已知工作点处的 = 40
(1) 求
(2) 若Rs= 500, 求源电压放大倍数
+
+12V
4k
RL
Rc
4k
Rb
300k
+VCC
+
–
Rs
+
–
24.
解:(1)
求rbe:
题目未告知rbb‘,小功率管约取200
25.
(2) 求Ri: Ri=rbe=0.866k
由于信号源内阻Rs的存在,输入信号在Rs上损失了一部分,使 , 从而使放大倍数下降。
26.
总之,由于三个因素的影响,T, IC , Q点上移,硅管受VBE, 影响大,锗管受ICB0影响大。
解决办法: 保持温度不变;
采取技术措施,减小温度影响,以稳定Q点。
3. : T ,注入到基区载流子运动加快,复合少,扩散多,
结温每升高1℃, 增加0.5% ~ 1%
28.
RL
Cb2
Cb1
Rc
Rb1
+VCC
IB+ IC
I1
IC
IB
b
c
e
vi
vo
+
–
+
–
图3-26
二、射极偏置电路
稳定Q点的过程
T IC IE IERe
VE (选择参数使I1 >>IB, VB一定,) VBE
IB IC.
Rb2
Re
29.
电路中电量取值:
硅: VB=(3~5)V
锗: VB= (1~3)V
硅: I1=(5~10) IB
锗: I1=(10~20) IB
30.
例3-4 已知,估算射极偏置电路的Q点,并计算
解:(1) 求Q点
Av,Ri,Ro
31.
(2) 画小信号模型
图3-27
+
–
RL
rbe
+
–
Rb2
b
e
c
Rc
Rb
Rb1
Re
—
32.
(3) 求Av
Av=
Vo
Vi
Vo= -IbRL
33.
´
(4) 求Ri, R0
+
–
RL
rbe
+
–
Ri
Rb2
b
e
c
Rc
Rb
Rb1
Re
图3-27
—
34.
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