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放大状态下BJT的工作原理
综上所述,三极管的放大作用,主要是依靠它的发射极电流能够通过基区传输,然后到达集电极而实现的。
实现这一传输过程的两个条件是:
(1)内部条件:发射区杂质浓度远大于基区杂质浓度,且基区很薄。
(2)外部条件:发射结正向偏置,集电结反向偏置。
放大状态下BJT的工作原理
2
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三极管(放大电路)的三种组态
共集电极接法,集电极作为公共电极,用CC表示;
共基极接法,基极作为公共电极,用CB表示。
共发射极接法,发射极作为公共电极,用CE表示;
外部条件:发射结正偏,集电结反偏
放大作用
vI = 20mV
iE = -1mA
RL
e
c
b
1k
VEE
VCC
IB
IE
IC
VEB
+vEB
放大电路
+iE
ii
+
-
vI
+iC
+iB
vO
+
-
io
图 4.1.5 共基极放大电路
= 0.98
iC = iE
vO = -iC• RL
vO = 0.98 V
非线性
iC = -0.98mA
iB = -20A
电压放大倍数
Ri= vI / iE =20
输入电阻
5.共射极连接方式
问题(1):如何保证?
发射结正偏
VBE =VBB
VBC = VBE - VCE <0
问题(2):信号通路?与共基有何区别?
集电结反偏
或 VCE > VBE
+vBE
+iE
+iC
+iB
+iE
+vBE
+vI
+iB
+iC
+vO
本质相同!
但希望…
vI = 20mV
iB = 20A
iC =0.98mA
vO = -0.98 V
Ri= vI / iB =1k
放大电路
5.共射极连接方式
IC与IB的关系:
由的定义:
即 IC = IE + ICBO = (IB + IC) + ICBO
整理可得:
令:
IC = IB + (1+ )ICBO
IC = IB + ICEO (穿透电流)
IC IB IE = IC + IB (1+ )IB
是共射极电流放大系数,只与管子的结构尺寸和掺杂浓度有关, 与外加电压无关。一般 >> 1(10~100)
ICBO 硅: 0.1A锗: 10A
即管子各电极电压与电流的关系曲线,是管子内部载流子运动的外部表现,反映了晶体管的性能,是分析放大电路的依据。
为什么要研究特性曲线:
1)直观地分析管子的工作状态
2)合理地选择偏置电路的参数,设计性能良好的电路
重点讨论应用最广泛的共发射极接法的特性曲线
4.1.3 BJT的V-I 特性曲线
实验线路
共发射极电路
发射极是输入、输出回路的公共端
(2) 当vCE≥1V时, vCB= vCE - vBE>0,集电结已进入反偏状态,开始收集电子,基区复合减少,同样的vBE下IB减小,特性曲线右移。
(1) 当vCE=0V时,相当于发射结的正向伏安特性曲线。
1. 输入特性曲线
vCE = 0V
vCE = 0V
vCE 1V
工作压降:
硅uBE 0.6~0.7V
锗uBE 0.2~0.3V
死区电压:硅管0.5V,锗管0.1V。
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2、输出特性曲线(硅管)
共发射极接法的输出特性曲线如图所示,它是以iB为参变量的一族特性曲线。
当vCE=0 V时,因集电极无收集作用,iC=0。
当vCE 稍增大时,发射结虽处于正向电压之下,但集电结反偏电压很小时,如:
vCE < 1 V, vBE =0.7 V
vCB= vCE- vBE= <0.7 V
集电区收集电子的能力很弱,iC主要由vCE决定。
图共发射极接法输出特性曲线
图共发射极接法输出特性曲线
当vCE增加到使集电结反偏电压较大时,如:vCE ≥1V,vBE ≥0.7V
运动到集电结的电子基本上都可以被集电区收集,此后vCE再增加,电流也没有明显的增加,特性曲线进入与vCE轴基本平行的区域 ( 这与输入特性曲线随vCE增大而右移的原因是一致的) 。图所示为共发射极接法输出特性曲线。
动画
2、输出特性曲线(硅管)
iC(mA )
2
4
6
8
uCE(V)
2
6
8
10
4
iB=0
20A
40A
60A
80A
100A
放大区:iC平行于vCE轴的区域,曲线基本平行等距。此时,发射结正偏,集电结反偏。
c
–
–
VBB
RL
e
VBE
b
+
VCC
I