内容正文:
PN结的反向击穿
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PN结的反向击穿
当PN结的反向电压增加到一定数值时,反向电流突然快速增加,此现象称为PN结的反向击穿。
雪崩击穿
齐纳击穿
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雪崩击穿——价电子被碰撞电离
PN结反向电压增加时,内电场增强。通过空间电荷区的电子和空穴,在内电场作用下获得较大能量,运动时不断地与晶体中其它 原子发生碰撞,将价电子轰出共价键,产生新的电子–空穴对,这种现象称为碰撞电离。新产生的载流子被电场加速后与价电子碰撞,发生新的碰撞电离,使载流子数象雪崩似的迅速增多,使反向电流急剧增大,发生二极管的雪崩击穿。
齐纳击穿——价电子被场致激发
在加有较高的反向电压下,强大的电场力能够破坏共价键,将束缚电子拉出来造成电子–空穴对,这种现象称为场致激发,场致激发发生后,载流子数量增加,形成较大的反向电流。致使PN结产生齐纳击穿。
齐纳击穿和雪崩击穿都不会造成二极管的永久性损坏——电击穿
热击穿:发生电击穿后,若反向电压很大,反向电流也很大,产生过多的
热量散发不出去,会使PN结因过热而烧毁,这种现象称为热击穿
热击穿——不可逆
电击穿——可逆
PN结的反向击穿
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PN结具有一定的电容效应,它由两方面的因素决定。
一是势垒电容CB
二是扩散电容CD
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(1) 势垒电容CB
势垒电容是由空间电荷区离子薄层形成的。当外加电压使PN结上压降发生变化时,离子薄层的厚度也相应地随之改变,这相当PN结中存储的电荷量也随之变化,犹如电容的充放电。势垒电容的示意图如下所示图。
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扩散电容是由多子扩散后,在PN结的另一侧面积累而形成的。因 PN 结正偏时,由N区扩散到 P 区的电子,与外电源提供的空穴相复合,形成正向电流。刚扩散过来的电子就堆积在 P 区内紧靠PN结的附近,形成一定的多子浓度梯度分布曲线。反之,由P区扩散到N区的空穴,在N区内也形成类似的浓度梯度分布曲线。扩散电容的示意图如下图所示。
(2) 扩散电容CD
当外加正向电压不同时,扩散电流即外电路电流的大小也就不同。所以PN结两侧堆积的多子的浓度梯度分布也不相同,这就相当电容的充放电过程。势垒电容和扩散电容均是非线性电容。
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CB在正向和反向偏置时均不能忽略。而反向偏置时,由于载流子数目很少,扩散电容CD可忽略。
PN结高频小信号时的等效电路:
势垒电容和扩散电容的综合效应
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3.3 半导体二极管
3.3.1 半导体二极管的结构
3.3.2 二极管的伏安特性
3.3.3 二极管的主要参数
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一、符号
PN结加上管壳和引线,就成为半导体二极管。
分类
按材料分类
按结构分类
按用途分类
硅管、锗管
点接触型、面接触型、平面型
普通、整流、稳压、开关二极管
P
N
阳极
阴极
P
N
二、分类
3.3.1 半导体二极管的结构
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(1) 点接触型二极管
PN结面积小,结电容小,
用于检波和变频等高频电路。
(a)点接触型
(2) 面接触型二极管
PN结面积大,用
于大电流整流电路。
(b)面接触型
(3) 平面型二极管
(c)平面型
往往用于集成电路制造工艺中。PN 结面积可大可小,用于高频整流和开关电路中。
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半导体二极管图片1
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半导体二极管图片2
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半导体二极管图片3
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