内容正文:
半导体表面与MIS结构
半导体物理
半导体表面与MIS结构
表面电场效应——MIS结构(金属-绝缘层-半导体)
表面势:空间电荷层内的电场从表面到体内逐渐减弱直到为零,电势发生相应变化,电势变化迭加在电子的电位能上,使得空间电荷层内的能带发生弯曲,“表面势VS”就是为描述能带变曲的方向和程度而引入的。
半导体物理
反向偏压下p-n结的费米能级
半导体物理
p-n结隧道效应
原理及描述
重掺杂的p区和n区形成的p-n结称为隧道结
半导体物理
多子堆积
多子耗尽
少子反型
半导体物理
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VG,三个状态描述
强反型条件(推导、理解)
强反型:
Vs≥2VB
T↑,NA↑衬底杂质浓度越高,Vs就越大,越不容易达到反型。
NA=pp0,
半导体物理
C-V特性
(1) VG<0,多子积累
绝对值较大时,,空穴聚集表面,
C=C0,AB段(半导体看成导通)
绝对值较小时,C0和Cs串联,C随
V增加而减小,BC段
(2)VG=0 CFB-表面平带电容
(3) VG>0
耗尽状态:VG增加,xd增大,Cs减小,CD段
Vs>2VB时:
EF段(低频)强反型,电子聚集表面, C=C0
GH段(高频):反型层中电子数量不能随高频信号而变,对电容无贡献,
还是由耗尽层的电荷变化决定(强反型达到xdm不随VG变化,电容保持最小值);GH段
半导体物理
第七章 金属和半导体接触
功函数
电子亲和能
金属和n型半导体接触能带图(Wm>Ws)
(a)接触前;(b)间隙很大; (c)紧密接触;(d)忽略间隙
电势降落在空间电荷区和金属半导体表面之间
电子的流向
半导体物理
两种金半接触
欧姆接触
不产生明显的附加阻抗,而且不会使半导体内部的平衡载流子发生显著的变化。
整流接触
半导体物理
利用模拟乘法器实现调制、解调功能
计算图中由同相放大器组成的加法电路的输出电压 表达式。
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