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双极型三极管
双极型三极管
一、双极型三极管的结构与工作原理
半导体三极管又称为晶体管、三极管、双极型晶体管、BJT 。自由电子和空穴两种载流子参与导电。
三极管由2个背靠背的PN结组成,分为 NPN型、PNP型。
三极管又分为硅三极管、锗三极管。
正常工作在反偏状态。无光照时,只有很小的反向饱和电流,称为暗电流;有光照时,PN结受光激发,产生大量电子空穴对,形成较大的光电流。
通常由硅材料制成,管壳有接收光照的透镜窗口。
光电二极管的电流与照度成正比,用于信号检测、光电传感器、电机转速测量等。
反向偏置时,PN结的等效电阻很大,等效电容与所加反向电压的大小有关。
变容二极管的电容很小,一般为pF数量级,通常用于高频电路,如电视机高频头中的压控可变电容器。
主要特点是导通电压较低(0.4V左右),导通时存储的非平衡载流子数量少,夹断时间很短,在高速数字电路中获得很好的应用。
NPN型三极管
箭头表示发射结正偏时的实际电流方向。
采用平面管制造工艺,在 N+型底层上形成两个PN结。
c:Collector 集电极
b:base 基极
e:emitter 发射极
工艺特点:e区掺杂浓度高,b区薄, c结面积大 。
发射区
基区
集电区
不对称PN结
N低掺杂区
P+高掺杂区
发射区
基区
集电区
PNP型三极管
发射结正偏(VBE<0)时,电流从b极流出。
在P+型底层上形成两个PN结。
NPN
IEN
IBN
ICN
IEP
多子扩散
少子漂移
载流子运动 (以NPN管为例)
发射区向基区大量注入电子(多子)IEN;同时基区也有空穴向发射区扩散IEP ;
注入基区的电子小部分被基区的 空穴复合IBN;
大部分注入的电子从发射结扩散到集电结,因集电结反偏,很容易漂移过集电结,拉入集电区,被集电极所收集ICN。
集电结反偏,少子形成反向饱和电流ICBO。
条件(放大状态):
发射结正偏(VBE>0),发射区电子大量向基区扩散的必要条件;
集电结反偏(VCB>0),由发射区来的电子得以绝大部分到达集电区的必要条件。
三极管内部结构特点
发射区掺杂浓度远大于集电区,以尽可能多提供载流子;
基区很薄,且掺杂浓度低,以减小载流子的复合机会;
集电区结面积较大,以利于收集载流子。
IEN
IBN
ICN
IEP
多子扩散
少子漂移
IEN
IBN
ICN
IEP
多子扩散
少子漂移
Je正偏,Jc反偏
定义
称为共基极直流电流放大系数,
ICBO称为集电结反向饱和电流,其值很小,常可忽略。
一定条件下,输入/出电流成线性关系,三极管是一种电流控制器件
共基组态时电流关系(放大状态)
共射组态时电流关系(放大状态)
称为共射极直流电流放大系数,远大于1
ICEO称为穿透电流,其值较小,也常可忽略。
令
则
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