内容正文:
PN结的伏安特性(单向导电性)
PN结的伏安特性(单向导电性)
一、 PN结正向伏安特性:
P+
N
内建电场E
lo
+ -
V
PN结正偏
阻挡层变薄
内建电场减弱
多子扩散>>少子漂移
多子扩散形成较大的正向电流I
PN结导通
I
电压V
电流I
正向接法
或
正向偏置
P14, I ,P N
补充失去的。。。
2
加动画
二、PN结反向伏安特性:
P+
N
内建电场E
lo
- +
V
PN结反偏
阻挡层变宽
内建电场增强
少子漂移>>多子扩散
少子漂移形成微小的反向电流IR
PN结截止状态
IR
IR与V 近似无关。
温度T
电流IR
结论:PN结具有单方向导电特性。
反向接法
或
反向偏置
P14, IR ,N P,书<0
补充失去的。。。
P15 IR=IS
3
加动画
R
R
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第二级
第三级
第四级
第五级
三、PN结——伏安特性方程式
PN结正、反向特性,可用理想的指数函数来描述:
热电压
26mV(室温)
其中:
IS为反向饱和电流,其值与PN结两边掺杂浓度成反比,与结面积成正比。与外加电压近似无关,受温度影响很大。
正偏时:
反偏时:
(1-2-3)
(1-2-6)
(1-2-7)
5
加动画
PN结——伏安特性曲线
ID(mA)
V(V)
Von
-IS
工程上,定义Von
PN结——伏安特性曲线
Von= 0.7V
IS=(10-9~10-16)A
硅PN结
Von= 0.25V
锗PN结
IS=(10-6~10-8)A
V >Von时
随着V
正向R很小
I
PN结导通;
V < Von时
IR很小(IR -IS)
反向R很大
PN结截止。
V >0?
V <0?
0.2-0.3V
0.6-0.8V
7
加动画
ID(mA)
V(V)
VD(on)
-IS
Si
Ge
PN结——伏安特性曲线(增加)
图 实验的伏安特性曲线
|V反|=V(BR)时,
IR急剧 ,
PN结反向击穿。
1.2.3 PN结的击穿特性
一、雪崩击穿
二、齐纳击穿
PN结掺杂浓度较低 (lo较宽)
发生条件
外加反向电压较大(>6V)
形成原因:
P,N 少子,碰撞电离。
V(BR)
ID(mA)
V(V)
形成原因:
场致激发。
发生条件
PN结掺杂浓度较高 (lo较窄)
外加反向电压较小(<6V)
热击穿——不可逆Izmax
电击穿——可逆Izmin
(1-2-5)
机会多.
阻挡层内的中性原子
10
加动画
三、稳压二极管(简称稳压管)
VZ
ID(mA)
V(V)
IZmin
IZmax
+
-
VZ
利用PN结的反向击穿特性,可制成稳压二极管。
要求:Izmin< Iz < Izmax
稳压管是一种特殊的面接触型半导体硅二极管。
稳压区:反向击穿区。
1.2.3 PN结的击穿特性
11
加动画
稳压管的主要参数:
(1)稳定电压UZ:击穿电压。
(2)稳定电流IZ Izmin------Izmax
(3)额定功耗 PZM:允许的最大功率
(4)动态电阻rz:稳压时。
IZ
好
要求:rZ
稳压性能越好
注意
稳压管电路,必须串联限流电阻!
工作在稳压状态的电流。
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