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两种导电机理——漂移和扩散
两种导电机理——漂移和扩散
载流子在电场作用下的运动,称为漂移运动,所形成的电流,称为漂移电流。看书P1-1-6图。P、N。
漂移电流密度
总漂移电流密度:
迁移率
一、漂移与漂移电流
外加电场,(少子)定向运动。
注意:
(1-1-6)
(1-1-7)
(1-1-8)
P7,本征硅,掺入五价,N型;再掺入相反性质的杂质,三价且浓度更高,可改变导电类型为P型。杂质补偿。
以上三个浓度基本上依次相差106/cm3 。
T=400 K, ni = n = p =7.59×1012/cm3,
n0=Nd=8×1014/cm3, 少子p0=7.2×1010/cm3
T=500 K, ni = n = p =3.53×1014/cm3 ,联立求解(1-1-2) 、 (1-1-3)
N0=9.33×1014/cm3, 少子p0=1.34×1014/cm3
例 本征硅的原子浓度: 4.96×1022/cm3
3
例1-1-3
本征半导体、杂质半导体。
复习:本节有关概念
N型半导体、P型半导体。
多数载流子、少数载流子。
施主杂质、受主杂质。
自由电子、空穴。
电导率:
半导体的电导率
电阻:
电压: V = E l
电流: I = S Jt
+ -
V
长度l
截面积S
电场E
I
(1-1-9)
载流子在浓度差作用下的运动,称为扩散运动,所形成的电流,称为扩散电流。P、N。
P10, 区别,导体:有浓度差=有电荷量差=有电场。
半导体:有浓度差,但无电荷量差=无电场。处处电中性。
扩散电流密度:
二、扩散与扩散电流
N 型 硅
光照
n(x)
p(x)
载流子浓度
x
no
po
光照或恒温,浓度差,(多子)定向运动。
注意:
(1-1-10)
(1-1-11)
<0
<0
常见PN结的结构图
(1) 点接触型二极管
(a)点接触型
二极管的结构示意图
PN结面积小,结电容小,用于检波和变频等高频电路。
在PN结上加上引线和封装,就成为一个二极管。二极管按结构分三大类:点接触型、面接触型和平面型。
(3) 平面型二极管
往往用于集成电路制造艺中。PN 结面积可大可小,用于高频整流和开关电路中。
(2) 面接触型二极管
PN结面积大,用于工频大电流整流电路。
(b)面接触型
(c)平面型
(4) 二极管的代表符号
P7, 用杂质补偿工艺,把P型、N型半导体在原子级上紧密有机结合,P区与N区的交界面就形成了PN结。
掺杂
N型
-16
P+型+30
It漂移
Id扩散
1.2.1 动态平衡下的P+N结
1.2.1 动态平衡下的P+N结
阻止多子扩散
出现内建电场
开始因浓度差
产生空间电荷区
引起多子扩散
利于少子漂移
最终达动态平衡
注意: PN结处于动态平衡时,扩散电流与漂移电流相抵消,通过PN结的电流为零。
一、(PN结)阻挡层形成的物理过程
空间电荷区(一定宽度)
即P+N结
杂质离子
宽
10
加动画
①PN结的电位差为VB
(N区
P区)
②对称结与不对称结。
③空间电荷区,缺少多子,所以也称耗尽层。
注意:掺杂浓度(Na、Nd)越大,内建电位差 VB
越大,阻挡层宽度 l0 越小(1-2-5)。Xn〉Xp
二、内建电位差:
三、阻挡层宽度 :
室温时
锗管 VB 0.2 ~ 0.3V
硅管 VB 0.5 ~ 0.7V
热电压
26mV(室温)
(1-2-3)
(1-2-2)
(1-2-5)
(1-2-1)
温度的电压当量
12
加动画
阳极a
阴极k
P型支持衬底
N
P
a阳极引线
k阴极引线
阳极a
k阴极
(d) 代表符号
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