内容正文:
半导体二极管
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半导体二极管
1. 半导体二极管的结构
点接触型二极管
PN结面积小,结电容小,用于检波和变频等高频电路。
北华航天工业学院
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半导体二极管
1. 半导体二极管的结构
面接触型二极管
PN结面积大,用于工频大电流整流电路。
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用于集成电路制造工艺中。PN 结面积可大可小,用于高频整流和开关电路中。
半导体二极管
1. 半导体二极管的结构
平面型二极管
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3、PN结方程(近似)
硅二极管2CP10的V-I 特性
锗二极管2AP15的V-I 特性
正向特性
反向特性
反向击穿特性
1、死区电压(门坎电压)
Vth = 0.5V(硅); Vth = 0.1V(锗)
2、反向饱和电流 硅:0.1A;锗:10A
半导体二极管
2. 二极管的伏安特性
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(1) 最大整流电流IF
(2) 反向击穿电压VBR和
最大反向工作电压VRM
(3) 反向饱和电流IS
(4) 正向压降VF
(5) 极间电容CB和CD
硅二极管2CP10的V-I 特性
半导体二极管
3. 二极管的参数
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半导体的基础知识
PN结的形成及特性
半导体二极管
二极管基本电路及其分析方法
特殊二极管
主要内容
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理想模型
恒压降模型
(硅)
VD = 0.7V
(锗)
VD = 0.2V
适用于电源电压远远大于二极管管压的场合
适用于二极管电流iD约等于或大于1mA时的场合
极管基本应用电路及其分析方法
1. 二极管的模型分析方法
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折线模型
(硅)
Vth = 0.5V
(锗)
Vth = 0.1V
小信号模型
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理想模型
(R=10k)
(a)VDD=10V 时
恒压模型
(硅二极管典型值)
折线模型
(硅二极管典型值)
设
2. 应用模型法分析二极管应用电路
二极管的静态工作情况分析
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理想模型
(R=10k)
(b)VDD=1V 时
恒压模型
(硅二极管典型值)
折线模型
(硅二极管典型值)
设
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限幅电路(例2.4.2)
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P型支持衬底
N
P
阳极引线
阴极引线
iD/mA
0
0.2
D/v
0.4
0.6
0.8
(10
(20
(30
(40
5
10
15
20
(10
(20
(30
(40
iD/A
死区
vth
vBR
iD/mA
0
0.2
D/v
0.4
0.6
①
(20
(40
②
(60
5
10
15
20
(10
(20
(30
(40
iD/A
③
vth
vBR
iD/mA
0
0.2
D/v
0.4
0.6
0.8
(10
(20
(30
(40
5
10
15
20
(10
(20
(30
(40
iD/A
死区
vth
vBR
VDD
iD
D
(
+
VDD
iD
D
(
+
VD
VDD
iD
D
(
+
rD
Vth
VDD
iD
D
(
+
VDD
iD
D
(
+
VD
VDD
iD
D
(
+
rD
Vth
R
+
(
I
VREF
Vth
+
(
O
rd
O/V
t
O/V
t
斜率
斜率0.17
rD
rD+R
VREF+Vth=3.5 V
I/V
(c)
(d)
R
+
(
I
VR