内容正文:
简并半导体
简并半导体
1.简并的出现
以掺某种n型杂质为例,在室温下,处于强电离区
此时,Ep=E_c+k_0Tn
f(E)=——I
1+exp“)-
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简并半导体
并半导体的载流子浓度
仍以掺某种n型杂质为例
1
2
Po≠
.(E)(E)dE
E-EE)
E
koT
费米积分
d
卡2(5)=hE)
koT
=N2若
M=N会5芳
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简并半导体
简并化条件
▣非简并与简并情况下的相对误差
ng N.exp(-
Ec-EE)
koT
koT
则,相对误差
△n
n-n=1-
√元expn
EF-Ec
no
no
2F2n)
koT
n
-4
-3
-2
-1
0
2
3
4
F2(n)
016
.043
.115
.291
.678
1.396
2.502
3.9775.771
|△n/nl
014
026
.043
.12
307
.726
1.6173.476
7.384
非简并
弱简并
简并
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简并半导体
▣简并化条件
Ec-Er 2koT
非简并
n型0<Ec-EF≤2k,T
弱简并
Ec-Ep≤0
简并
EF -Ey 2koT
非简并
p型0<EF-E,≤2kI
弱简并
EF-E≤0
简并
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简并半导体
▣简并临界浓度的估算
Ec
Ec+Ep ko In(No)
=Ec时
NS
2
2
2N
-
Ep
治0
NDI<N D2<N D
3/2
T
W。=0.11Np=4.82×105T2
mo
T=8.12x10()N8
Ec+
2
3y2
EFa=E,Nn→N
N6=2.9×102
4E,2
mo
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简并半导体
口一般来说,半导体发生简并时,参杂浓度接近或
大于导带底有效状态密度N。(价带顶有效状态密
度N)
口对于杂质电离能小的杂质(容易电离),则杂质
浓度较小时就会发生简并(容易简并化)
口对于不同种类的半导体,因导带底有效状态密度
和价带顶有效密度各不相同。一般规律是有效状
态密度小的材料,其发生简并的杂质浓度较小。
Si:AEp =0.044eV,m=1.08m,N=3x102cm3
Ge:△ED=0.012eV,mm=0.56m,N6=1.6×10cm3
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简并半导体
口简并浓度的正式计算
no np
Er-Ep)
1+2exp(koT
强简并条件E,=E。
-云06
Np
+2e57
koT
→N,=06SN+2expA5/】
注意:N。与温度有关
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简并半导体
简并时杂质的电离情况
1+2exp
Er-Ep)
koT
非简并时,室温下,通常E<ED,np~ND
简并时,Er≥Ec,则np<ND
简并时,杂质不能充分电离
简并半导体电了浓度较高,费米能级远在施主能级之
上,使施主能级上填满电子,使杂质电离程度降低
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简并半导体
简并半导体中的杂质能级
口非简并半导体:杂质浓度不大,杂质间距比较远,
相互作用可忽略,在禁带中形成孤立的能级。
口重掺杂的简并半导体:杂质浓度很高,杂质互相
靠近,电子波函数显著重叠,使杂质电子能在杂
质原子之间产生共有化运动,从而使孤立的能级
扩展为能带,通常称为杂质能带(简并能带)
口杂质能带中的杂质电子,可以通过杂质原子之间
的共有化运动参加导电的现象称为杂质带导电。
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