第五章 第三节 无机非金属材料（课时作业）- 【勤径学升·同步练测】2022-2023学年高一新教材化学必修第二册（人教版）

训练（七） 无机非金属材料 [对应素能提升训练第17页] 1.《天工开物》第七卷《陶埏》（陶瓷）中记载“水火既济而土合……后世方土效灵，人工表异，陶成雅器，有素肌、玉骨之象焉”，以上所述的“陶成雅器”的主要原料是 （　　） A.黏土 B.纯碱、石灰石、石英砂 C.黏土、石灰石 D.二氧化硅、硅酸钙、硅酸铝 解析　陶瓷的传统概念是指所有以黏土等无机非金属矿物为原材料，经过高温烧制而成的产品，题干中陶成雅器，水火既济而土合为陶器的生产工艺，所以所述的“陶成雅器”的主要原料是黏土，故选A。 答案　A 2.（2022·合肥高一检测）下列反应不能一步完成的是 （　　） A.SiO2→Na2SiO3 B.SiO2→H2SiO3 C.Na2SiO3→H2SiO3 D.H2SiO3→SiO2 解析　二氧化硅可与氢氧化钠直接反应生成硅酸钠；Na2SiO3溶液中通入CO2或加入盐酸都可以生成H2SiO3；硅酸可直接加热分解生成二氧化硅，故只有B符合题意。 答案　B 3.下列关于SiO2和CO2的说法中正确的是 （　　） A.CO2、SiO2都能与碱及碱性氧化物反应 B.CO2和SiO2与水反应分别生成相应的酸 C.CO2和SiO2在一定条件下均能将碳还原为CO D.CO2和SiO2都是由相应的分子构成的 解析　CO2、SiO2都是酸性氧化物，都能与碱及碱性氧化物反应，A正确；SiO2不溶于水，也不能和水反应生成硅酸，B不正确；根据反应C＋CO22CO、2C＋SiO2Si＋2CO↑，C被氧化为CO，C不正确；CO2是由分子构成的，SiO2是由Si、O原子直接构成的，D不正确。 答案　A 4.由二氧化硅制高纯硅的流程如下，下列说法中错误的是 （　　） A.SiHCl3的摩尔质量为135.5 g B.H2和HCl均可循环利用 C.SiO2是一种坚硬难熔的固体 D.①②③均属于氧化还原反应 解析　SiHCl3的摩尔质量为135.5 g/mol，A项错误；根据生产高纯硅的流程可知，H2和HCl既是反应物，又是生成物，所以H2和HCl可循环利用，B项正确；SiO2硬度大、熔点高，C项正确；反应①②③中均有元素的化合价发生变化，均属于氧化还原反应，D项正确。 答案　A 5.碳纳米材料是近年来人们非常关注的一类新型无机非金属材料，下列关于碳纳米材料的说法中不正确的是 （　　） A.C60是富勒烯的代表物，C60的摩尔质量为720 g/mol B.碳纳米管可用于生产电池和传感器 C.石墨烯与石墨都具有导电性 D.石墨烯的性质稳定，在氧气中不能燃烧 解析　石墨烯是由碳元素组成的单质，它在氧气中可以燃烧，D项错误。 答案　D 6.下列关于硅及其化合物的说法，正确的是 （　　） A.硅的导电性介于导体与绝缘体之间，是良好的半导体材料，可用于生产光导纤维 B.二氧化硅可用于生产计算机、家用电器等的芯片，及硅太阳能电池 C.高纯硅的制备：SiO2Si（粗）SiHCl3Si（纯），三步反应均为氧化还原反应 D.SiSiO2、SiO2H2SiO3、SiO2水玻璃，均能通过一步反应完成 解析　高纯硅是良好的半导体材料，可用于生产计算机、家用电器等的芯片，及硅太阳能电池，A项错误；SiO2具有良好的导光性，可用于生产光导纤维，B项错误；高纯硅制备的主要反应为：SiO2＋2CSi（粗）＋2CO↑，Si（粗）＋3HClSiHCl3＋H2；SiHCl3＋H2Si（纯）＋3HCl，三个反应均为氧化还原反应，C项正确；Si＋O2SiO2，SiO2不溶于水，SiO2H2SiO3不能一步完成，Na2SiO3的水溶液俗称水玻璃，SiO2＋2NaOHNa2SiO3＋H2O，D项错误。 答案　C 7.中国高铁对实现“一带一路”倡议有重要的作用。 （1）建设高铁轨道需要大量的水泥，生产水泥的主要原材料是黏土和　　　　；还需要加入适量　　　　调节水泥硬化速率。  （2）高铁上的信息传输系统使用了光导纤维，其主要成分是　　　　；乘务员使用的无线通话机的芯片材料是　　　　。  （3）高铁上安装有许多玻璃，氢氟酸可以处理玻璃表面的微裂纹，氢氟酸与玻璃中的二氧化硅反应的化学方程式为  。 （4）高铁上的卫生间没有任何异味，是由于所使用的马桶、地漏和洗手盆下水口都是纳米硅胶的高科技产品。向硅酸钠溶液中加入稀盐酸可产生硅酸胶体，该反应的离子方程式为　。  解析　（1）生产水泥的主要原料是：石灰石和黏土；生产水泥的主要设备是：水泥回转窑；加入适量石膏可调节水泥硬化速率；（2）光导纤维，其主要成分是SiO2，具有良好的导光性，硅单质是半导体材料，常用于计算机芯片的材料和太阳能电池，乘务员使用的无线通话机的芯片材料是硅；（3）玻璃中含有二氧化硅，二氧化硅和氢氟酸反应生成四氟化硅，化学方程式为：SiO2＋4HFSiF4↑